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等离子喷涂耐高温吸波涂层的制备及性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
论文的主要创新与贡献第9-14页
第1章 绪论第14-34页
    1.1 引言第14-15页
    1.2 雷达吸波材料的工作原理及分类第15-16页
        1.2.1 雷达吸波材料工作原理第15页
        1.2.2 雷达吸波材料分类第15-16页
    1.3 高温吸收剂研究进展第16-28页
        1.3.1 碳类吸收剂第16-24页
        1.3.2 SiC吸收剂第24-26页
        1.3.3 其他吸收剂第26-28页
    1.4 等离子喷涂技术第28-30页
        1.4.1 等离子喷涂技术介绍第28-29页
        1.4.2 等离子喷涂的特点第29页
        1.4.3 影响等离子喷涂涂层质量的主要工艺参数第29-30页
    1.5 论文选题背景及选题意义第30-31页
    1.6 论文的主要研究内容第31-34页
第2章 实验及研究方法第34-44页
    2.1 引言第34页
    2.2 实验用原材料第34-37页
        2.2.1 MAS第34-35页
        2.2.2 CB第35-36页
        2.2.3 MWCNTs第36页
        2.2.4 Ti_3SiC_2第36-37页
    2.3 实验方案与技术路线第37页
    2.4 实验设备第37-39页
        2.4.1 球磨机第37页
        2.4.2 喷雾干燥机第37-38页
        2.4.3 等离子喷涂设备第38-39页
    2.5 涂层性能分析第39-44页
        2.5.1 涂层显微结构分析第39页
        2.5.2 涂层的相组成分析第39-40页
        2.5.3 激光粒度分析第40页
        2.5.4 涂层密度及孔隙率分析第40页
        2.5.5 涂层显微硬度分析第40-41页
        2.5.6 涂层介电性能分析第41-42页
        2.5.7 涂层吸波性能分析第42-44页
第3章 碳类吸收剂吸波涂层的制备及性能研究第44-76页
    3.1 引言第44页
    3.2 涂层制备过程第44-51页
        3.2.1 喷涂喂料的制备第44-47页
        3.2.2 等离子喷涂工艺第47-51页
    3.3 等离子喷涂CB/MAS吸波涂层性能研究第51-62页
        3.3.1 涂层微观结构第52-53页
        3.3.2 涂层物相第53-54页
        3.3.3 涂层密度及孔隙率分析第54-55页
        3.3.4 涂层显微硬度第55-57页
        3.3.5 涂层电磁参数第57-59页
        3.3.6 涂层吸波性能第59-62页
    3.4 等离子喷涂MWCNTs/MAS吸波涂层性能研究第62-72页
        3.4.1 涂层微观结构第62-63页
        3.4.2 涂层物相第63-64页
        3.4.3 涂层密度及孔隙率第64-65页
        3.4.4 涂层显微硬度第65-67页
        3.4.5 涂层电磁参数第67-68页
        3.4.6 涂层吸波性能第68-72页
    3.5 CB/MAS与MWCNTs/MAS吸波涂层性能比较第72-73页
    3.6 本章小结第73-76页
第4章 防氧化玻璃涂层的制备及性能研究第76-94页
    4.1 引言第76页
    4.2 吸波涂层的高温氧化行为第76-80页
        4.2.1 吸波涂层的高温氧化性能测试第76-77页
        4.2.2 吸波涂层的氧化失重率第77-78页
        4.2.3 吸波涂层氧化后的复介电常数第78-80页
    4.3 单层防氧化玻璃层研究第80-83页
        4.3.1 玻璃层的制备过程第80页
        4.3.2 玻璃层微观结构第80-81页
        4.3.3 玻璃层防氧化性能第81-83页
    4.4 双层防氧化玻璃层研究第83-89页
        4.4.1 玻璃层制备过程第83页
        4.4.2 玻璃层微观结构第83-84页
        4.4.3 玻璃层防氧化性能第84-86页
        4.4.4 多次刷涂玻璃层防氧化性能第86-89页
    4.5 吸波涂层反射率实测结果第89-91页
    4.6 本章小结第91-94页
第5章 Ti_3SiC_2/ MAS吸波涂层的制备及性能研究第94-118页
    5.1 引言第94页
    5.2 Ti_3SiC_2/MAS吸波涂层制备过程第94-95页
    5.3 喷涂参数对Ti_3SiC_2/ MAS吸波涂层性能影响第95-103页
        5.3.1 不同CPSP值喷涂涂层微观结构第96-97页
        5.3.2 不同CPSP值喷涂涂层物相第97-98页
        5.3.3 不同CPSP值喷涂涂层密度及孔隙率第98-99页
        5.3.4 不同CPSP值喷涂涂层显微硬度第99-100页
        5.3.5 不同CPSP值喷涂涂层电磁参数第100-102页
        5.3.6 不同CPSP值喷涂涂层吸波性能第102-103页
    5.4 涂层微观结构第103-104页
    5.5 涂层物相第104-105页
    5.6 涂层密度及孔隙率第105-106页
    5.7 涂层显微硬度第106-107页
    5.8 涂层电磁参数第107-110页
    5.9 涂层吸波性能第110-113页
    5.10 涂层高温电磁参数及吸波性能第113-116页
        5.10.1 涂层高温电磁参数第114-115页
        5.10.2 涂层高温吸波性能第115-116页
    5.11 本章小结第116-118页
结论第118-120页
参考文献第120-136页
攻读博士学位期间发表的学术论文第136-138页
致谢第138-139页

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