首页--数理科学和化学论文--化学论文--物理化学(理论化学)、化学物理学论文

界面修饰提高α-S光催化性能和稳定性研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-20页
    1.1 选题背景第9页
    1.2 光催化的原理第9-10页
    1.3 元素半导体光催化剂第10-14页
        1.3.1 硫催化剂第11页
        1.3.2 红磷催化剂第11页
        1.3.3 黑磷量子点第11-13页
        1.3.4 硅催化剂第13页
        1.3.5 硒催化剂第13-14页
    1.4 元素a-S的修饰改性方法第14-17页
        1.4.1 石墨烯表面改性第14-15页
        1.4.2 半导体复合第15-17页
    1.5 本论文的主要研究内容与创新点第17-20页
        1.5.1 本论文研究主要内容第17-18页
        1.5.2 本论文创新点第18-20页
第二章 实验方法和数据处理第20-26页
    2.1 药品与试剂第20页
    2.2 氧化石墨烯的制备第20-21页
    2.3 一步法制备SGx复合物第21页
    2.4 CTAB辅助法制备a-S@r GO复合物第21-22页
    2.5 a-S/P25异质结的制备第22页
    2.6 催化剂活性测定第22-23页
    2.7 光催化剂的表征第23-26页
        2.7.1 X-射线多晶衍射(XRD)第23页
        2.7.2 透射电子显微镜(TEM)第23-24页
        2.7.3 光电子能谱(XPS)第24页
        2.7.4 紫外-可见漫反射(DRS)第24页
        2.7.5 扫描电子显微镜(SEM)第24-25页
        2.7.6 荧光光谱(PL)第25-26页
第三章 一步法制备负载型a-S/r GO复合物及其光催化性能研究第26-37页
    3.1 XRD分析第26-27页
    3.2 扫描和透射电镜分析第27-29页
    3.3 紫外-可见漫反射光谱分析第29-30页
    3.4 荧光光谱分析第30-31页
    3.5 光电子能谱分析第31-32页
    3.6 光催化性能分析第32-35页
    3.7 催化剂的光化学稳定性第35-36页
    小结第36-37页
第四章 CTAB辅助法制备S@r GO复合物及其光催化活性和稳定性研究第37-49页
    4.1 XRD分析第37-38页
    4.2 扫描电镜分析第38-39页
    4.3 紫外-可见漫反射光谱分析第39-40页
    4.4 荧光光谱分析第40-41页
    4.5 光电子能谱分析第41-43页
    4.6 光催化性能分析第43-46页
    4.7 稳定性分析第46-47页
    4.8 光催化增强的反应机理第47-48页
    小结第48-49页
第五章 S-P25异质结提高a-S光催化性能的研究第49-61页
    5.1 XRD分析第49-50页
    5.2 透射电镜分析第50-51页
    5.3 紫外-可见漫反射光谱分析第51-52页
    5.4 荧光光谱分析第52-53页
    5.5 光电子能谱分析第53-55页
    5.6 S/P25复合物的光催化性能研究第55-59页
    5.7 光催化性能增强的机理第59-60页
    小结第60-61页
第六章 结论与展望第61-62页
参考文献第62-70页
攻读学位期间的研究成果及所获荣誉第70-71页
致谢第71页

论文共71页,点击 下载论文
上一篇:(+)-Strictifolione的全合成及GarsubellinA的模型研究
下一篇:天然产物(-)-(6S,2R)-Cryptocaryalactone和2-取代哌啶类生物碱的不对称全合成研究