| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第11-12页 |
| 1.2 热物性测量方法 | 第12-19页 |
| 1.2.1 接触式方法 | 第12-17页 |
| 1.2.2 非接触式方法 | 第17-19页 |
| 1.3 3ω 法的发展过程和测试原理 | 第19-23页 |
| 1.3.1 3ω 法的发展过程 | 第19-22页 |
| 1.3.2 3ω 法测试原理 | 第22-23页 |
| 1.4 薄膜热导率的理论分析方法 | 第23-27页 |
| 1.4.1 气体动力学理论热导率模型 | 第23-24页 |
| 1.4.2 基于波尔兹曼输运方程的模型 | 第24-27页 |
| 1.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第28-42页 |
| 2.1 本文涉及的氧化物薄膜制备方法 | 第28-31页 |
| 2.1.1 热氧化法 | 第28-29页 |
| 2.1.2 高分子辅助沉积法 | 第29-31页 |
| 2.2 电极的制备 | 第31-35页 |
| 2.2.1 电极材料选取 | 第31-32页 |
| 2.2.2 电极的形状 | 第32-33页 |
| 2.2.3 电极的制备 | 第33-35页 |
| 2.3 3ω 法测试系统 | 第35-41页 |
| 2.3.1 锁相放大器 | 第36-38页 |
| 2.3.2 电桥电路模块 | 第38-39页 |
| 2.3.3 数据提取程序 | 第39-40页 |
| 2.3.4 3ω 法测试步骤 | 第40-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 SiO_2薄膜热导率与界面热阻的测量与分析 | 第42-56页 |
| 3.1 二氧化硅薄膜的制备 | 第42页 |
| 3.2 电极材料温度系数 | 第42-45页 |
| 3.3 SiO_2薄膜热导率测试 | 第45-51页 |
| 3.3.1 100 nm SiO_2薄膜热导率测量 | 第46-47页 |
| 3.3.2 200 nm SiO_2薄膜热导率测量 | 第47-48页 |
| 3.3.3 300 nm SiO_2薄膜热导率测量 | 第48-49页 |
| 3.3.4 500 nm SiO_2薄膜热导率测量 | 第49-50页 |
| 3.3.5 800 nm SiO_2薄膜热导率测量 | 第50-51页 |
| 3.4 影响热导率因素讨论 | 第51-52页 |
| 3.5 SiO_2/Si界面热阻的计算 | 第52-53页 |
| 3.6 实验结果的不确定度分析 | 第53-55页 |
| 3.6.1 系统误差分析 | 第53-54页 |
| 3.6.2 随机误差分析 | 第54-55页 |
| 3.7 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 BTO薄膜热导率与界面热阻的测量与分析 | 第56-66页 |
| 4.1 钛酸钡薄膜的制备 | 第56-59页 |
| 4.1.1 高分子辅助沉积法制备BTO薄膜 | 第56-58页 |
| 4.1.2 X射线衍射测试BTO样品 | 第58-59页 |
| 4.2 电极材料温度系数 | 第59-61页 |
| 4.3 BTO热导率测试 | 第61-62页 |
| 4.4 BTO/SiO_2界面热阻的计算 | 第62-64页 |
| 4.5 实验结果的不确定度分析 | 第64-65页 |
| 4.5.1 系统误差分析 | 第64页 |
| 4.5.2 随机误差分析 | 第64-65页 |
| 4.6 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻读硕士期间的研究结果 | 第71-72页 |
