| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 引言 | 第8-19页 |
| 1.1 自旋电子学简介 | 第8-12页 |
| 1.1.1 自旋电子学的形成与发展 | 第8-9页 |
| 1.1.2 磁各向异性及垂直易磁化体系 | 第9-11页 |
| 1.1.3 反常霍尔效应 | 第11-12页 |
| 1.2 自旋力矩效应 | 第12-14页 |
| 1.3 电控磁效应 | 第14-17页 |
| 1.3.1 电控磁效应的机制 | 第14-15页 |
| 1.3.2 传统的电控磁器件结构 | 第15-16页 |
| 1.3.3 使用离子液体栅极的电控磁器件 | 第16-17页 |
| 1.4 研究思路及内容 | 第17-19页 |
| 第2章 实验方法 | 第19-28页 |
| 2.1 薄膜样品的制备 | 第19-20页 |
| 2.1.1 电子束蒸镀 | 第19-20页 |
| 2.2 薄膜的性能表征 | 第20-21页 |
| 2.2.1 超导量子磁强计 | 第20页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱分析 | 第20-21页 |
| 2.3 器件的制备 | 第21-24页 |
| 2.3.1 光学曝光 | 第21页 |
| 2.3.2 电子束曝光 | 第21-23页 |
| 2.3.3 氩离子刻蚀 | 第23页 |
| 2.3.4 离子液体栅极制备 | 第23-24页 |
| 2.4 磁电输运性质的测量 | 第24-26页 |
| 2.4.1 反常霍尔效应的测量 | 第24页 |
| 2.4.2 自旋力矩效应的测量 | 第24-26页 |
| 2.5 第一性原理计算 | 第26-28页 |
| 第3章 Co/Ni垂直磁化体系磁性的电调控 | 第28-40页 |
| 3.1 Co/Ni垂直磁化体系的设计与制备 | 第28页 |
| 3.2 Co/Ni垂直磁化体系的基本磁学性能 | 第28-30页 |
| 3.3 电调控Co/Ni体系磁学性能 | 第30-33页 |
| 3.4 电调控Co/Ni体系磁性的机理 | 第33-37页 |
| 3.5 电调控Co/Ni体系反常霍尔效应标度律 | 第37-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 自旋力矩效应的电调控 | 第40-60页 |
| 4.1 Ta/Pt/Co/HfO_2垂直磁化体系的设计与制备 | 第41-42页 |
| 4.2 Ta/Pt/Co/HfO_2体系的基本磁学性能和自旋力矩效应 | 第42-47页 |
| 4.3 电调控Ta/Pt/Co/HfO_2体系的磁学性能 | 第47-49页 |
| 4.4 电调控Ta/Pt/Co/HfO_2体系的自旋力矩效应和临界翻转电流 | 第49-52页 |
| 4.5 电调控自旋力矩效应的机理 | 第52-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第68页 |
