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等离子体环境下模板制备纳米点阵的理论研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
第一章 绪论第11-18页
    1.1 纳米结构概论第11-12页
    1.2 模板合成纳米阵列第12-14页
    1.3 低温等离子体在成膜上的应用第14-16页
    1.4 本课题研究内容与目的第16-18页
第二章 利用纳米孔洞模板等离子体沉积金属点阵的研究第18-31页
    2.1 引言第18-20页
    2.2 理论模型与方法第20-23页
    2.3 研究结果第23-28页
    2.4 讨论分析第28-29页
    2.5 本章小结第29-31页
第三章 利用氧化铝模板沉积介质材料时的离子流分布第31-42页
    3.1 引言第31-32页
    3.2 理论模型与方法第32-35页
    3.3 研究结果和讨论第35-40页
    3.4 本章小结第40-42页
第四章 等离子体环境下利用球珠模板刻蚀聚合物材料第42-63页
    4.1 引言第42-44页
    4.2 理论模型与方法第44-47页
    4.3 研究结果第47-56页
    4.4 讨论分析第56-61页
    4.5 本章小结第61-63页
第五章 全文总结第63-65页
参考文献第65-75页
致谢第75-77页
攻读硕士学位期间取得的科研成果第77-78页

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