| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第1章 概述 | 第12-20页 |
| 1.1 课题背景 | 第12页 |
| 1.2 基于光纤延时线的微波移相器基本原理及发展现状 | 第12-18页 |
| 1.2.1 微波移相器种类及发展现状 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光纤延时线基本原理及在微波移相器中的应用 | 第13-16页 |
| 1.2.3 基于光纤延时线的相控阵技术及其应用前景 | 第16-18页 |
| 1.3 本文主要工作 | 第18-20页 |
| 第2章 3~n光纤延时线结构以及电路系统搭建 | 第20-33页 |
| 2.1 基于SOA 的3~n 光纤延时线结构及其特点 | 第20-26页 |
| 2.1.1 3~n 光纤延时线结构设计 | 第20-23页 |
| 2.1.2 3~n 延时线结构特点及分析 | 第23-26页 |
| 2.2 延时线系统驱动电路的实现与优化 | 第26-32页 |
| 2.2.1 半导体光放大器驱动电路设计与制作 | 第26-29页 |
| 2.2.2 SOA 驱动电路测试以及优化 | 第29-32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 高精度光纤延时线制作技术及制作平台 | 第33-57页 |
| 3.1 高精度光纤微拉伸制作平台 | 第33-48页 |
| 3.1.1 精密测量子系统 | 第34-38页 |
| 3.1.2 可调加热子系统 | 第38-45页 |
| 3.1.3 精密拉伸控制子系统 | 第45-46页 |
| 3.1.4 系统整合 | 第46-48页 |
| 3.2 光纤制作中的工艺分析与研究 | 第48-52页 |
| 3.2.1 拉伸流程中的温控问题 | 第48-51页 |
| 3.2.2 光纤制作工艺流程 | 第51-52页 |
| 3.3 光纤拉伸实验研究 | 第52-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 新型延时线系统的光电噪声性能实验研究 | 第57-80页 |
| 4.1 半导体光放大器理论分析与应用 | 第57-60页 |
| 4.1.1 半导体光放大器工作原理 | 第57-58页 |
| 4.1.2 半导体光放大器主要应用 | 第58-60页 |
| 4.2 半导体光放大器的噪声特性与非线性噪声抑制 | 第60-63页 |
| 4.2.1 半导体光放大器的ASE 噪声 | 第60-62页 |
| 4.2.2 半导体光放大器中信号与噪声的非线性作用 | 第62-63页 |
| 4.3 新型光纤延时线的光传输性能实验研究 | 第63-75页 |
| 4.3.1 一级延时线单元测试 | 第64-66页 |
| 4.3.2 两级延时线单元级联测试 | 第66-70页 |
| 4.3.3 半导体光放大器在传输结构与反射机构中的信号性能比较 | 第70-75页 |
| 4.4 新型光纤延时线系统微波传输性能探索研究 | 第75-78页 |
| 4.4.1 半导体光放大器对光载微波链路的信号传输性能的影响 | 第75-76页 |
| 4.4.2 新型光纤延时线系统微波噪声实验探索 | 第76-78页 |
| 4.5 本章小结 | 第78-80页 |
| 第5章 总结 | 第80-82页 |
| 致谢辞 | 第82-83页 |
| 攻读学位期间论文与成果 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
