锂、锡注入影响钨化学状态、结构和硬度研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 核聚变研究介绍 | 第9-11页 |
| 1.2 面壁材料与等离子体相互作用 | 第11-13页 |
| 1.3 面壁材料的选择 | 第13-16页 |
| 1.3.1 低Z材料的选择 | 第14页 |
| 1.3.2 高Z材料的选择 | 第14-16页 |
| 1.4 等离子体面壁材料的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.4.1 固体面壁材料W的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.4.2 液态面壁的研究进展 | 第17页 |
| 1.5 金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)技术 | 第17-19页 |
| 1.5.1 金属离子源特点 | 第17-18页 |
| 1.5.2 离子注入技术特点 | 第18-19页 |
| 1.5.3 离子注入改性机理 | 第19页 |
| 1.6 本文主要研究目的和内容 | 第19-21页 |
| 2 改性层制备与实验方法 | 第21-27页 |
| 2.1 改性层实验制备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 MEVVA装置及操作步骤 | 第21-22页 |
| 2.1.2 改性层样品制备 | 第22页 |
| 2.2 实验样品表征 | 第22-27页 |
| 2.2.1 SRIM2013程序模拟的基础理论 | 第22-23页 |
| 2.2.2 X射线光电能谱(XPS)仪 | 第23-24页 |
| 2.2.3 X射线衍射(XRD)仪 | 第24-25页 |
| 2.2.4 纳米压痕仪 | 第25-27页 |
| 3 Li离子注入影响W化学状态、结构和硬度的研究 | 第27-41页 |
| 3.1 TRIM程序模拟Li离子注入行为 | 第27-28页 |
| 3.2 X射线光电子能谱分析 | 第28-33页 |
| 3.2.1 元素深度分析 | 第28-29页 |
| 3.2.2 化学成分分析 | 第29页 |
| 3.2.3 化学状态分析 | 第29-33页 |
| 3.3 X射线衍射结构分析 | 第33-34页 |
| 3.4 纳米硬度分析 | 第34-36页 |
| 3.5 讨论 | 第36-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 Sn离子注入影响W化学状态、结构和硬度的研究 | 第41-56页 |
| 4.1 TRIM程序模拟Sn离子注入行为 | 第41-42页 |
| 4.2 X射线光电子能谱分析 | 第42-48页 |
| 4.2.1 元素深度分析 | 第42-43页 |
| 4.2.2 化学成分分析 | 第43-44页 |
| 4.2.3 化学状态分析 | 第44-48页 |
| 4.3 X射线衍射结构分析 | 第48-49页 |
| 4.4 纳米硬度分析 | 第49-51页 |
| 4.5 讨论 | 第51-55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
