| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-38页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 磁电阻效应 | 第11-19页 |
| 1.2.1 常磁阻 | 第11-12页 |
| 1.2.2 铁磁金属中的磁电阻效应 | 第12-13页 |
| 1.2.3 巨磁阻效应（GMR） | 第13-16页 |
| 1.2.4 隧道磁阻效应（TMR） | 第16-18页 |
| 1.2.5 纳米线体系中的磁电阻 | 第18页 |
| 1.2.6 其它磁阻效应体系 | 第18-19页 |
| 1.3 磁电阻效应的应用 | 第19-27页 |
| 1.3.1 硬盘驱动器磁读头 | 第20-21页 |
| 1.3.2 磁敏传感器 | 第21-24页 |
| 1.3.3 磁随机存取存储器 | 第24-27页 |
| 1.4 纳米磁结构单体磁电阻效应的测量方法 | 第27-30页 |
| 1.4.1 群体测量 | 第28页 |
| 1.4.2 使用特殊改造过的磁力显微镜对纳米磁结构单体的磁阻性质进行测量的方法 | 第28-29页 |
| 1.4.3 通过微纳加工技术对纳米磁结构单体进行磁阻特性测量的方法 | 第29-30页 |
| 1.5 本文立意 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-38页 |
| 第二章 纳米磁结构单体的制备和表征 | 第38-53页 |
| 2.1 引言 | 第38页 |
| 2.2 纳米磁结构单体的制备 | 第38-44页 |
| 2.2.1 磁控溅射 | 第38-39页 |
| 2.2.2 电子束蒸发沉积 | 第39-40页 |
| 2.2.3 分子束外延 | 第40页 |
| 2.2.4 化学气相沉积 | 第40-41页 |
| 2.2.5 电化学沉积 | 第41-42页 |
| 2.2.6 光学曝光技术 | 第42页 |
| 2.2.7 电子束曝光 | 第42-44页 |
| 2.3 纳米磁结构的表征 | 第44-51页 |
| 2.3.1 透射电子显微镜（TEM） | 第44-49页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第49-50页 |
| 2.3.3 振动样品磁强计（VSM） | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第三章 电镜原位磁输运测量仪的设计和制造 | 第53-77页 |
| 3.1 引言 | 第53-55页 |
| 3.2 电镜原位磁输运测量仪的设计思路和组成部分 | 第55-56页 |
| 3.2.1 电镜原位磁输运测量仪的设计思路 | 第55-56页 |
| 3.2.2 电镜原位磁输运测量仪的组成部分 | 第56页 |
| 3.3 电镜原位磁输运测量仪各组成部分的设计和制造 | 第56-64页 |
| 3.3.1 纳米操纵器设计和制造 | 第56-59页 |
| 3.3.2 磁化样品台的设计和制造 | 第59-60页 |
| 3.3.3 电子控制系统的设计和制造 | 第60-62页 |
| 3.3.4 物性测量系统的开发 | 第62页 |
| 3.3.5 纳米工具的制备 | 第62-64页 |
| 3.4 电镜原位磁输运测量仪的组装和测试 | 第64-72页 |
| 3.4.1 磁输运测量仪运动性能的测试 | 第64-71页 |
| 3.4.2 磁场对电镜成像质量的影响 | 第71-72页 |
| 3.4.3 物性测试系统的测试 | 第72页 |
| 3.5 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 第四章 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的制备、化学组分和微观结构的研究 | 第77-92页 |
| 4.1 引言 | 第77-78页 |
| 4.2 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的制备 | 第78-80页 |
| 4.3 CoCu/Cu多层纳米线的化学组分和微观结构的研究 | 第80-88页 |
| 4.3.1 CoCu/Cu多层纳米线的形貌分析 | 第80-81页 |
| 4.3.2 CoCu/Cu多层纳米线的化学组分分析 | 第81-84页 |
| 4.3.3 CoCu/Cu多层纳米线的微结构分析 | 第84-88页 |
| 4.4 结论 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-92页 |
| 第五章 单根 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线电学性质的原位测量 | 第92-102页 |
| 5.1 引言 | 第92-93页 |
| 5.2 单根 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线电学性质测试的测试过程 | 第93-94页 |
| 5.3 单根 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的电学性质测试 | 第94-98页 |
| 5.4 单根 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的最大电流密度 | 第98-99页 |
| 5.5 结论 | 第99页 |
| 参考文献 | 第99-102页 |
| 第六章 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线磁阻性质的原位测量 | 第102-114页 |
| 6.1 引言 | 第102-103页 |
| 6.2 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线磁化反转机制的研究 | 第103-107页 |
| 6.2.1 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线磁学性质的测试过程 | 第103页 |
| 6.2.2 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的磁滞回线 | 第103页 |
| 6.2.3 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的磁化反转机制 | 第103-106页 |
| 6.2.4 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线矫顽力的理论计算 | 第106-107页 |
| 6.3 单根 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的磁阻研究 | 第107-110页 |
| 6.3.1 单根 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的磁阻测量过程 | 第107-108页 |
| 6.3.2 单根 Co_(81)Cu_(19)/Cu多层纳米线的磁阻 | 第108-110页 |
| 6.4 结论 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-114页 |
| 第七章 石墨烯与四氧化三铁复合磁性纳米材料 | 第114-122页 |
| 7.1 引言 | 第114-115页 |
| 7.2 石墨烯与四氧化三铁复合磁性纳米材料的制备 | 第115-116页 |
| 7.3 石墨烯与四氧化三铁复合磁性纳米材料的微结构表征 | 第116-119页 |
| 7.4 结论 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-122页 |
| 第八章 总结及展望 | 第122-126页 |
| 8.1 本论文工作总结 | 第122-124页 |
| 8.2 研究展望 | 第124-126页 |
| 在学期间的研究成果 | 第126-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
