| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-21页 |
| 1.1. 课题背景及意义 | 第8页 |
| 1.2. 国内外对颗粒碰撞研究的现状及分析 | 第8-18页 |
| 1.2.1. 毫微米量级以上的颗粒碰撞的研究 | 第9-11页 |
| 1.2.2. 纳米颗粒的碰撞的研究 | 第11-18页 |
| 1.3. 分子动力学模拟研究团簇冲击的进展 | 第18-20页 |
| 1.4. 本文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 反应分子动力学模拟的基本原理 | 第21-32页 |
| 2.1. 分子动力学模拟方法 | 第21-24页 |
| 2.1.1. 基本原理 | 第21-22页 |
| 2.1.2. 控温方法 | 第22-23页 |
| 2.1.3. 控压方法 | 第23-24页 |
| 2.1.4. 边界条件 | 第24页 |
| 2.2. 反应分子动力学模拟势函数 | 第24-30页 |
| 2.2.1. 全原子反应动力学势函数 | 第25-29页 |
| 2.2.2. 粗粒化反应动力学势函数 | 第29-30页 |
| 2.2.3. 多种势函数的联合使用 | 第30页 |
| 2.3. 应力与应变 | 第30-31页 |
| 2.3.1. 维里应力 | 第30页 |
| 2.3.2. 应变 | 第30-31页 |
| 2.4. 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 纯PVDF在硅氧原子团簇冲击下的分子动力学模拟 | 第32-51页 |
| 3.1. 聚合物薄膜层模型及硅氧原子团簇模型 | 第32-34页 |
| 3.1.1. PVDF晶胞 | 第32页 |
| 3.1.2. PVDF薄膜层 | 第32-33页 |
| 3.1.3. 硅氧原子团簇模型 | 第33-34页 |
| 3.2. SI_5O_(16)硅氧原子团簇对PVDF薄膜的冲击模拟 | 第34-44页 |
| 3.2.1. 纳米团簇的轨迹分析 | 第34-36页 |
| 3.2.2. 纯PVDF的破坏过程分析 | 第36-44页 |
| 3.3. 团簇类型对冲击结果的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.1. 纳米团簇的轨迹 | 第44页 |
| 3.3.2. 对PVDF的冲击坑的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.3. 对PVDF的侵蚀率的影响 | 第45-46页 |
| 3.4. 入射角度对冲击结果的影响 | 第46-48页 |
| 3.4.1. 纳米团簇的轨迹 | 第47页 |
| 3.4.2. 对PVDF的冲击坑的影响 | 第47页 |
| 3.4.3. 对PVDF的侵蚀率的影响 | 第47-48页 |
| 3.5．侵蚀通量对模拟结果的影响 | 第48-49页 |
| 3.5.1. 不同速度的影响 | 第48-49页 |
| 3.5.2. 侵蚀通量的影响 | 第49页 |
| 3.6. 本章小结 | 第49-51页 |
| 第4章 POSS及其增强的PVDF在硅氧原子团簇冲击下的动力学模拟 | 第51-60页 |
| 4.1. 侵蚀模型的构建与平衡 | 第51-52页 |
| 4.2. SI_5O_(16)团簇对POSS/PVDF和纯POSS的冲击模拟 | 第52-59页 |
| 4.2.1. POSS对团簇的影响 | 第53-56页 |
| 4.2.2. POSS对PVDF破坏的影响 | 第56-59页 |
| 4.3. 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
