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大中型SiC非球面反射镜确定性高效加工工艺的研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第1章 绪论第14-40页
    1.1 课题研究背景及意义第14-15页
    1.2 大中型非球面高效加工的研究现状第15-22页
        1.2.1 大中型非球面车削和磨削第15-20页
        1.2.2 大中型非球面磁流变抛光第20-22页
    1.3 常用非球面加工技术简介第22-32页
        1.3.1 传统非球面加工方法第22-23页
        1.3.2 计算机控制光学表面成形法( Computer Controlled OpticalSurfacing)第23-24页
        1.3.3 小磨头技术第24-27页
        1.3.4 磁流变抛光技术(Magnetorheological Finishing)第27-28页
        1.3.5 应力盘抛光技术(Stress Lap Polishing)第28-30页
        1.3.6 离子束抛光(Ion Beam Figuring)第30-32页
    1.4 常用非球面检测技术第32-36页
        1.4.1 轮廓检测第32-36页
        1.4.2 干涉检测第36页
    1.5 传统大中型SiC非球面反射镜制造工艺路线第36-38页
    1.6 本论文的研究内容第38-40页
第2章 SiC材料超声复合磨削工艺第40-72页
    2.1 概述第40-41页
    2.2 超声加工原理第41-43页
        2.2.1 传统超声加工原理第41-42页
        2.2.2 超声复合磨削原理第42-43页
    2.3 超声复合磨削运动分析第43-47页
        2.3.1 超声复合平行磨削第43-45页
        2.3.2 超声复合横向磨削第45-47页
    2.4 超声复合磨削金刚石砂轮设计第47-56页
        2.4.1 概述第47-48页
        2.4.2 金刚石磨料粒度第48-49页
        2.4.3 金刚石砂轮分类第49-51页
        2.4.4 金刚石砂轮形状第51-52页
        2.4.5 金刚石砂轮的浓度第52-53页
        2.4.6 金刚石砂轮的平衡第53-55页
        2.4.7 金刚石砂轮的设计流程第55-56页
    2.5 金刚石砂轮超声磨削SiC材料的磨削比第56-62页
        2.5.1 磨削比定义第56-57页
        2.5.2 磨削比的测定第57-61页
        2.5.3 超声复合磨削SiC和不加超声的磨削比第61-62页
    2.6 超声复合磨削工艺数据库建立第62-63页
    2.7 超声刀柄研发和实验第63-70页
        2.7.1 超声主轴刀柄第63-65页
        2.7.2 超声复合磨削工艺实验第65-69页
        2.7.3 超声复合磨削表面质量第69-70页
    2.8 本章小结第70-72页
第3章 大中型SiC离轴非球面快速成形技术第72-98页
    3.1 概述第72页
    3.2 五轴超声数控磨削机床第72-76页
    3.3 SiC离轴非球面反射镜磨削流程第76-77页
    3.4 离轴非球面反射镜模型建立第77-84页
        3.4.1 非球面方程第77页
        3.4.2 系数法建模第77-80页
        3.4.3 逆向工程法建模第80-83页
        3.4.4 刀具路径规划第83页
        3.4.5 刀具轴向规划第83-84页
    3.5 超声复合磨削在线检测第84-90页
        3.5.1 概述第84-85页
        3.5.2 激光跟踪仪检测非球面基本原理第85-87页
        3.5.3 超声复合磨削离轴非球面在线检测第87-90页
    3.6 超声复合磨削SiC大口径离轴非球面反射镜实验第90-97页
    3.7 本章小结第97-98页
第4章 轮式磁介质辅助抛光技术的研究第98-120页
    4.1 概述第98页
    4.2 轮式磁介质辅助抛光原理第98-99页
    4.3 磁介质辅助抛光去除机理第99-101页
        4.3.1 磁介质辅助抛光的机械去除机理第99-100页
        4.3.2 磁介质辅助抛光的化学去除机理第100-101页
        4.3.3 轮式磁介质辅助抛光的材料去除机理第101页
    4.4 轮式磁介质辅助抛光机构设计第101-107页
        4.4.1 轮式磁介质辅助抛光的抛光轮设计第101-103页
        4.4.2 轮式磁介质辅助抛光机构设计第103-107页
    4.5 轮式磁介质辅助抛光去除函数第107-110页
        4.5.1 轮式磁介质辅助抛光去除函数模型第107-108页
        4.5.2 轮式磁介质辅助抛光去除函数实验第108-110页
    4.6 轮式磁介质辅助抛光改性Si表面工艺参数优化第110-116页
    4.7 轮式磁介质辅助抛光实验第116-118页
    4.8 本章小结第118-120页
第5章 磁流变抛光机床的设计和分析第120-140页
    5.1 概述第120页
    5.2 磁流变抛光原理第120-123页
        5.2.1 磁流变抛光液的组成第120-121页
        5.2.2 磁流变抛光原理第121-122页
        5.2.3 磁流变抛光数学模型第122-123页
    5.3 磁流变抛光模块设计和分析第123-128页
        5.3.1 磁流变抛光机构简介第123-125页
        5.3.2 球形抛光轮磁流变抛光机构设计第125-128页
    5.4 机床分析第128-135页
        5.4.1 机床刚度第129页
        5.4.2 磁流变抛光机床分析和设计第129-135页
    5.5 磁流变抛光去除函数中心定标和分析第135-136页
    5.6 磁流变抛光的工程应用第136-138页
    5.7 本章小结第138-140页
第6章 确定性高效加工工艺路线和加工实例第140-148页
    6.1 概述第140页
    6.2 大中型Si C非球面反射镜高效加工工艺路线第140-142页
    6.3 大中型Si C非球面反射镜高效加工实例第142-146页
    6.4 本章小结第146-148页
第7章 总结和展望第148-150页
    7.1 总结第148-149页
    7.2 工作展望第149-150页
参考文献第150-158页
在学期间学术成果情况第158-160页
指导教师及作者简介第160-162页
致谢第162页

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