摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第1章 绪论 | 第14-40页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第14-15页 |
1.2 大中型非球面高效加工的研究现状 | 第15-22页 |
1.2.1 大中型非球面车削和磨削 | 第15-20页 |
1.2.2 大中型非球面磁流变抛光 | 第20-22页 |
1.3 常用非球面加工技术简介 | 第22-32页 |
1.3.1 传统非球面加工方法 | 第22-23页 |
1.3.2 计算机控制光学表面成形法( Computer Controlled OpticalSurfacing) | 第23-24页 |
1.3.3 小磨头技术 | 第24-27页 |
1.3.4 磁流变抛光技术(Magnetorheological Finishing) | 第27-28页 |
1.3.5 应力盘抛光技术(Stress Lap Polishing) | 第28-30页 |
1.3.6 离子束抛光(Ion Beam Figuring) | 第30-32页 |
1.4 常用非球面检测技术 | 第32-36页 |
1.4.1 轮廓检测 | 第32-36页 |
1.4.2 干涉检测 | 第36页 |
1.5 传统大中型SiC非球面反射镜制造工艺路线 | 第36-38页 |
1.6 本论文的研究内容 | 第38-40页 |
第2章 SiC材料超声复合磨削工艺 | 第40-72页 |
2.1 概述 | 第40-41页 |
2.2 超声加工原理 | 第41-43页 |
2.2.1 传统超声加工原理 | 第41-42页 |
2.2.2 超声复合磨削原理 | 第42-43页 |
2.3 超声复合磨削运动分析 | 第43-47页 |
2.3.1 超声复合平行磨削 | 第43-45页 |
2.3.2 超声复合横向磨削 | 第45-47页 |
2.4 超声复合磨削金刚石砂轮设计 | 第47-56页 |
2.4.1 概述 | 第47-48页 |
2.4.2 金刚石磨料粒度 | 第48-49页 |
2.4.3 金刚石砂轮分类 | 第49-51页 |
2.4.4 金刚石砂轮形状 | 第51-52页 |
2.4.5 金刚石砂轮的浓度 | 第52-53页 |
2.4.6 金刚石砂轮的平衡 | 第53-55页 |
2.4.7 金刚石砂轮的设计流程 | 第55-56页 |
2.5 金刚石砂轮超声磨削SiC材料的磨削比 | 第56-62页 |
2.5.1 磨削比定义 | 第56-57页 |
2.5.2 磨削比的测定 | 第57-61页 |
2.5.3 超声复合磨削SiC和不加超声的磨削比 | 第61-62页 |
2.6 超声复合磨削工艺数据库建立 | 第62-63页 |
2.7 超声刀柄研发和实验 | 第63-70页 |
2.7.1 超声主轴刀柄 | 第63-65页 |
2.7.2 超声复合磨削工艺实验 | 第65-69页 |
2.7.3 超声复合磨削表面质量 | 第69-70页 |
2.8 本章小结 | 第70-72页 |
第3章 大中型SiC离轴非球面快速成形技术 | 第72-98页 |
3.1 概述 | 第72页 |
3.2 五轴超声数控磨削机床 | 第72-76页 |
3.3 SiC离轴非球面反射镜磨削流程 | 第76-77页 |
3.4 离轴非球面反射镜模型建立 | 第77-84页 |
3.4.1 非球面方程 | 第77页 |
3.4.2 系数法建模 | 第77-80页 |
3.4.3 逆向工程法建模 | 第80-83页 |
3.4.4 刀具路径规划 | 第83页 |
3.4.5 刀具轴向规划 | 第83-84页 |
3.5 超声复合磨削在线检测 | 第84-90页 |
3.5.1 概述 | 第84-85页 |
3.5.2 激光跟踪仪检测非球面基本原理 | 第85-87页 |
3.5.3 超声复合磨削离轴非球面在线检测 | 第87-90页 |
3.6 超声复合磨削SiC大口径离轴非球面反射镜实验 | 第90-97页 |
3.7 本章小结 | 第97-98页 |
第4章 轮式磁介质辅助抛光技术的研究 | 第98-120页 |
4.1 概述 | 第98页 |
4.2 轮式磁介质辅助抛光原理 | 第98-99页 |
4.3 磁介质辅助抛光去除机理 | 第99-101页 |
4.3.1 磁介质辅助抛光的机械去除机理 | 第99-100页 |
4.3.2 磁介质辅助抛光的化学去除机理 | 第100-101页 |
4.3.3 轮式磁介质辅助抛光的材料去除机理 | 第101页 |
4.4 轮式磁介质辅助抛光机构设计 | 第101-107页 |
4.4.1 轮式磁介质辅助抛光的抛光轮设计 | 第101-103页 |
4.4.2 轮式磁介质辅助抛光机构设计 | 第103-107页 |
4.5 轮式磁介质辅助抛光去除函数 | 第107-110页 |
4.5.1 轮式磁介质辅助抛光去除函数模型 | 第107-108页 |
4.5.2 轮式磁介质辅助抛光去除函数实验 | 第108-110页 |
4.6 轮式磁介质辅助抛光改性Si表面工艺参数优化 | 第110-116页 |
4.7 轮式磁介质辅助抛光实验 | 第116-118页 |
4.8 本章小结 | 第118-120页 |
第5章 磁流变抛光机床的设计和分析 | 第120-140页 |
5.1 概述 | 第120页 |
5.2 磁流变抛光原理 | 第120-123页 |
5.2.1 磁流变抛光液的组成 | 第120-121页 |
5.2.2 磁流变抛光原理 | 第121-122页 |
5.2.3 磁流变抛光数学模型 | 第122-123页 |
5.3 磁流变抛光模块设计和分析 | 第123-128页 |
5.3.1 磁流变抛光机构简介 | 第123-125页 |
5.3.2 球形抛光轮磁流变抛光机构设计 | 第125-128页 |
5.4 机床分析 | 第128-135页 |
5.4.1 机床刚度 | 第129页 |
5.4.2 磁流变抛光机床分析和设计 | 第129-135页 |
5.5 磁流变抛光去除函数中心定标和分析 | 第135-136页 |
5.6 磁流变抛光的工程应用 | 第136-138页 |
5.7 本章小结 | 第138-140页 |
第6章 确定性高效加工工艺路线和加工实例 | 第140-148页 |
6.1 概述 | 第140页 |
6.2 大中型Si C非球面反射镜高效加工工艺路线 | 第140-142页 |
6.3 大中型Si C非球面反射镜高效加工实例 | 第142-146页 |
6.4 本章小结 | 第146-148页 |
第7章 总结和展望 | 第148-150页 |
7.1 总结 | 第148-149页 |
7.2 工作展望 | 第149-150页 |
参考文献 | 第150-158页 |
在学期间学术成果情况 | 第158-160页 |
指导教师及作者简介 | 第160-162页 |
致谢 | 第162页 |