| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-29页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·金刚石的特性与应用 | 第9-13页 |
| ·金刚石的晶体结构和形态 | 第9-10页 |
| ·金刚石的性质和应用 | 第10-13页 |
| ·金刚石膜的制备方法和机理 | 第13-19页 |
| ·金刚石膜的制备方法 | 第13-15页 |
| ·CVD金刚石膜的生长机理 | 第15-17页 |
| ·影响CVD金刚石膜生长的因素 | 第17-19页 |
| ·硬质合金 | 第19-20页 |
| ·硬质合金分类 | 第19页 |
| ·硬质合金制备与性能 | 第19-20页 |
| ·CVD金刚石涂层刀具技术的研究状况 | 第20-22页 |
| ·CVD金刚石膜在硬质合金刀具上的研究状况 | 第20-21页 |
| ·纳米金刚石涂层刀具的研究状况 | 第21-22页 |
| ·影响CVD金刚石涂层工具性能的主要因素 | 第22-27页 |
| ·金刚石涂层与硬质合金附着力 | 第22-26页 |
| ·金刚石薄膜表面粗糙度 | 第26-27页 |
| ·论文的研究意义和主要研究内容及方法 | 第27-29页 |
| ·研究意义 | 第27-28页 |
| ·研究的主要内容和方法 | 第28-29页 |
| 2 MPCVD沉积装置与金刚石膜的表征技术 | 第29-35页 |
| ·MPCVD技术的优点 | 第29-30页 |
| ·MPCVD金刚石膜沉积装置 | 第30-33页 |
| ·微波源 | 第30页 |
| ·微波传输与转换系统 | 第30-32页 |
| ·进气和冷却系统 | 第32页 |
| ·沉积装置 | 第32-33页 |
| ·真空系统 | 第33页 |
| ·外接液态源 | 第33页 |
| ·金刚石薄膜的表征方法 | 第33-35页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第35页 |
| ·数显显微维氏硬度计（VTD512） | 第35页 |
| 3 微波等离子体钝化预处理及MC试剂预处理 | 第35-47页 |
| ·硬质合金WC-6%WT.CO的等离子体钝化预处理 | 第36-41页 |
| ·微波等离子体硼氮共渗预处理 | 第36-39页 |
| ·微波等离子体渗硼预处理 | 第39-41页 |
| ·硬质合金刀片WC-6%WT.CO的MC试剂预处理 | 第41-42页 |
| ·微波等离子体钝化预处理与MC预处理结果讨论 | 第42-47页 |
| 4 CVD金刚石涂层的制备及表征 | 第47-53页 |
| ·CVD金刚石涂层的制备及表征 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 5 CVD金刚石涂层结合力 | 第53-59页 |
| ·金刚石涂层内应力 | 第53-55页 |
| ·金刚石涂层内应力概述 | 第53页 |
| ·金刚石涂层内应力分析 | 第53-55页 |
| ·膜-基中间层物相分析 | 第55-56页 |
| ·金刚石涂层硬质合金刀具压痕分析 | 第56-57页 |
| ·金刚石涂层硬质合金刀具的车削实验 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第69页 |