| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 引言 | 第12-30页 |
| ·研究背景和意义 | 第12-13页 |
| ·人工光合作用与水氧化原理 | 第13-20页 |
| ·光合作用 | 第13-14页 |
| ·光系统Ⅱ | 第14-16页 |
| ·人工光合作用 | 第16页 |
| ·基于半导体材料的人工光合作用体系 | 第16-18页 |
| ·一步法与两步激发分解水 | 第18-20页 |
| ·光催化水氧化催化剂 | 第20-23页 |
| ·非贵金属催化剂在水氧化中的应用 | 第20-22页 |
| ·关于铱贵金属氧酸盐水氧化催化剂 | 第22-23页 |
| ·分子水氧化催化剂在电极表面的负载方式 | 第23-25页 |
| ·物理方法负载分子催化剂 | 第23-24页 |
| ·共价键方法负载分子催化剂 | 第24页 |
| ·静电作用负载分子催化剂 | 第24-25页 |
| ·常见的半导体材料 | 第25-29页 |
| ·有关钒酸铋的制备方法 | 第25-27页 |
| ·常见三氧化钨的制备方法 | 第27-29页 |
| ·本论文的研究背景和内容 | 第29-30页 |
| 第1章 分子催化剂修饰半导体材料的光阳极 | 第30-45页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·主要原料 | 第31-32页 |
| ·药品与试剂 | 第31-32页 |
| ·试剂的纯化 | 第32页 |
| ·主要仪器 | 第32-33页 |
| ·实验部分 | 第33-35页 |
| ·立方烷Co化合物和电极的制备 | 第33-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-43页 |
| ·三氧化钨电极的表征 | 第35-36页 |
| ·钒酸铋电极的表征 | 第36-37页 |
| ·立方烷Co分子的表征 | 第37-39页 |
| ·Co催化剂在电极上的稳定性 | 第39-40页 |
| ·FTO/WO_3/Co光电化学阳极性能研究 | 第40-41页 |
| ·FTO/BiVO_4/Co光阳极的结果与讨论 | 第41-42页 |
| ·FTO/BiVO_4/Co电极光稳定性测试 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第2章 双层催化剂修饰的半导体光阳极 | 第45-61页 |
| ·前言 | 第45-46页 |
| ·实验过程 | 第46-47页 |
| ·主要试剂 | 第46-47页 |
| ·主要仪器 | 第47-48页 |
| ·实验部分 | 第48-49页 |
| ·BiVO_4基底上修饰Fe_5HO_8·3H_2O化合物 | 第48页 |
| ·BiVO_4基底上修饰Ni(OH)_x氧化物 | 第48-49页 |
| ·合成Ir-COOH催化剂 | 第49页 |
| ·制备含Ir-COOH催化剂电极 | 第49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-59页 |
| ·催化剂Ir-COOH化合物的合成及表征 | 第50页 |
| ·制备的BiVO_4基底上修饰Fe氧化物的表征 | 第50-51页 |
| ·BiVO_4基底上修饰Ni(OH)_x氧化物的表征 | 第51页 |
| ·测试FTO/BiVO_4/Ir-COOH电极 | 第51-53页 |
| ·测试BiVO_4/Fe/Ir-COOH电极 | 第53-56页 |
| ·测试BiVO_4基底上修饰Ni(OH)_x氧化物电极 | 第56-57页 |
| ·测试FTO/BiVO_4/Ni(OH)_x负载Co催化剂电极 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第3章 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
