| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-11页 |
| ·引言 | 第6-8页 |
| ·光子晶体研究进展 | 第8-9页 |
| ·硅光子晶体研究的意义 | 第9-10页 |
| ·本论文的主要工作 | 第10-11页 |
| 第二章 光子晶体的制备与表征方法 | 第11-16页 |
| ·光子晶体的制备方法 | 第11-13页 |
| ·自然生长法 | 第11-12页 |
| ·电子束光刻法 | 第12页 |
| ·紫外光刻法 | 第12页 |
| ·激光刻蚀法 | 第12-13页 |
| ·光子晶体的表征方法 | 第13-15页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第13页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第13-14页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第14页 |
| ·光致荧光光谱(PL) | 第14-15页 |
| ·本章小结 | 第15-16页 |
| 第三章 调 Q 激光制备硅基二维光子晶体的实验研究 | 第16-24页 |
| ·实验原理 | 第16-17页 |
| ·实验仪器与实验过程 | 第17-20页 |
| ·实验仪器 | 第17-19页 |
| ·实验过程 | 第19-20页 |
| ·不同波长纳秒脉冲调 Q 激光制备二维硅光子晶体 | 第20-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第四章 硅基二维光子晶体的理论计算研究 | 第24-39页 |
| ·光子晶体的计算方法 | 第24-25页 |
| ·平面波展开法（PWE） | 第24页 |
| ·时域有限差分法(FDTD) | 第24-25页 |
| ·传输矩阵法(TMM) | 第25页 |
| ·正方晶格二维硅光子晶体的带隙特性 | 第25-29页 |
| ·正方晶格圆形基元硅光子晶体的带隙特性 | 第25-27页 |
| ·正方晶格正方形气孔硅光子晶体的带隙特性 | 第27-29页 |
| ·三角晶格二维硅光子晶体的带隙特性 | 第29-34页 |
| ·三角晶格圆形基元硅光子晶体的带隙特性 | 第29-31页 |
| ·三角晶格不同气孔形状硅光子晶体的带隙特性 | 第31-34页 |
| ·光子受限效应与晶格对称性效应 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第五章 硅基二维光子晶体微腔的选模研究 | 第39-50页 |
| ·正方晶格硅光子晶体微腔的选模 | 第39-42页 |
| ·正方晶格气孔型硅光子晶体微腔的选模 | 第39-41页 |
| ·正方晶格硅柱型光子晶体微腔的选模 | 第41-42页 |
| ·三角晶格硅光子晶体微腔的选模 | 第42-49页 |
| ·三角晶格气孔型硅光子晶体微腔的选模 | 第42-48页 |
| ·三角晶格硅柱型光子晶体微腔的选模 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第六章 硅光子晶体纳米激光器的结构设计 | 第50-55页 |
| ·光子晶体激光器 | 第50-51页 |
| ·硅光子晶体纳米激光器的结构设计 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第七章 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·总结 | 第55-56页 |
| ·展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 附录：硕士期间发表的学术论著和参加的科研项目 | 第64-66页 |