| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-26页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·超硬纳米涂层 | 第11-15页 |
| ·超硬涂层定义 | 第11-12页 |
| ·超硬涂层的种类 | 第12-13页 |
| ·超硬及纳米涂层的发展前景 | 第13-15页 |
| ·硬质涂层的评价指标 | 第15-17页 |
| ·成分与结构 | 第15页 |
| ·应力 | 第15-16页 |
| ·摩擦性能 | 第16页 |
| ·硬度及模量 | 第16-17页 |
| ·结合力 | 第17页 |
| ·气相沉积技术 | 第17-22页 |
| ·化学气相沉积 | 第17-18页 |
| ·物理气相沉积 | 第18-22页 |
| ·TiAlSiN涂层的制备 | 第22-24页 |
| ·射频与直流反应磁控溅射 | 第22页 |
| ·弧离子增强反应磁控溅射 | 第22-23页 |
| ·阴极弧等离子体沉积技术 | 第23页 |
| ·离子束辅助沉积技术 | 第23页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射 | 第23-24页 |
| ·论文研究意义及内容 | 第24-26页 |
| ·研究意义 | 第24-25页 |
| ·研究思路 | 第25页 |
| ·研究内容 | 第25-26页 |
| 第2章 涂层的制备及表征 | 第26-32页 |
| ·涂层的制备 | 第26-28页 |
| ·阴极电弧复合直流磁控溅射 | 第26-27页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射复合直流磁控溅射 | 第27-28页 |
| ·涂层表征 | 第28-32页 |
| ·成分、形貌及结构 | 第28页 |
| ·力学性能 | 第28-29页 |
| ·粗糙度及涂层厚 | 第29-32页 |
| 第3章 阴极电弧复合直流磁控溅射正交法制备TiAlSi涂层 | 第32-49页 |
| ·各因素对沉积速率的影响 | 第33-36页 |
| ·基体负偏压对沉积速率的影响 | 第33-34页 |
| ·腔体温度对沉积速率的影响 | 第34-35页 |
| ·氮气流量对沉积速率的影响 | 第35页 |
| ·电流对沉积速率的影响 | 第35-36页 |
| ·各因素对表面粗糙度的影响 | 第36-40页 |
| ·氮气对表面粗糙度的影响 | 第37-39页 |
| ·腔体温度对涂层粗糙度的影响 | 第39-40页 |
| ·基体负偏压对表面粗糙度的影响 | 第40页 |
| ·电流对表面粗糙度的影响 | 第40页 |
| ·各因素对成分的影响 | 第40-43页 |
| ·电流对涂层硅含量的影响 | 第42页 |
| ·基体负偏压对表面硅含量的影响 | 第42页 |
| ·氩气对表面硅含量的影响 | 第42-43页 |
| ·各因素对硬度的影响 | 第43-46页 |
| ·氮气对涂层硬度的影响 | 第43-44页 |
| ·温度对涂层硬度的影响 | 第44-45页 |
| ·基体负偏压对涂层硬度的影响 | 第45-46页 |
| ·正交优化的TiAlSiN刀具切削及对比 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第4章 高功率脉冲磁控溅射复合直流磁控溅射制备TiAlSiN | 第49-60页 |
| ·粗糙度 | 第49-50页 |
| ·成分 | 第50-51页 |
| ·表面形貌与截面形貌 | 第51-54页 |
| ·结构 | 第54-55页 |
| ·力学性质 | 第55-59页 |
| ·硬度 | 第56-57页 |
| ·基体负偏压对涂层硬度的影响 | 第57-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第5章 结论与展望 | 第60-62页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| ·展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |