| 英文缩略词表 | 第1-7页 |
| 中文摘要 | 第7-8页 |
| 英文摘要 | 第8-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-14页 |
| 第二章 他达那非表面分子印记磁珠的制备及应用 | 第14-29页 |
| 1 仪器和材料 | 第14-15页 |
| ·药品和试剂 | 第14页 |
| ·仪器 | 第14-15页 |
| ·检测样品 | 第15页 |
| 2 实验部分 | 第15-18页 |
| ·他达那非分子印记磁珠(MIP-Coated MNP)的制备 | 第15-16页 |
| ·Fe_3O_4@SiO_2的制备及表面接枝 | 第15页 |
| ·印记磁珠的制备 | 第15-16页 |
| ·印记磁珠的表征 | 第16页 |
| ·印记磁珠的性能评价 | 第16-17页 |
| ·静态吸附试验 | 第16页 |
| ·动态吸附试验 | 第16-17页 |
| ·选择性吸附试验 | 第17页 |
| ·可重复性试验 | 第17页 |
| ·印记磁珠的实际应用 | 第17-18页 |
| ·HPLC-UV色谱条件 | 第17页 |
| ·质谱条件 | 第17页 |
| ·样品处理方法 | 第17-18页 |
| 4 结果与讨论 | 第18-28页 |
| ·实验条件优化 | 第18-21页 |
| ·功能单体的选择 | 第18-19页 |
| ·反应溶剂的选择 | 第19-20页 |
| ·功能单体与交联剂的比例 | 第20-21页 |
| ·印记磁珠的特性及表征 | 第21-23页 |
| ·电镜表征 | 第21页 |
| ·粒度分析 | 第21页 |
| ·磁化强度分析 | 第21-22页 |
| ·X射线衍射分析 | 第22-23页 |
| ·印记磁珠性能评价 | 第23-26页 |
| ·静态吸附试验 | 第23-25页 |
| ·动态吸附试验 | 第25页 |
| ·选择性吸附试验 | 第25-26页 |
| ·可重复性试验 | 第26页 |
| ·印记磁珠分离富集方法学研究及样品分析 | 第26-28页 |
| ·专属性试验 | 第26页 |
| ·标准曲线 | 第26页 |
| ·稳定性试验 | 第26-27页 |
| ·加样回收率试验 | 第27页 |
| ·样品测定 | 第27-28页 |
| 5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 西地那非分子印记电化学传感器研究 | 第29-44页 |
| 1 仪器和材料 | 第29-30页 |
| ·药品和试剂 | 第29页 |
| ·仪器 | 第29-30页 |
| ·检测样品 | 第30页 |
| 2 实验部分 | 第30-32页 |
| ·RGO-MIES的制备 | 第30-32页 |
| ·玻碳电极预处理 | 第30页 |
| ·石墨婦的制备与修饰 | 第30页 |
| ·石墨婦饰玻碳电极 | 第30-31页 |
| ·对苯二胺与西地那非预组装 | 第31页 |
| ·电聚合法制备RGO-MIES | 第31-32页 |
| ·电化学表征方法和条件 | 第32页 |
| ·样品测定 | 第32页 |
| 3 结果与讨论 | 第32-43页 |
| ·石墨烯的红外表征 | 第32-33页 |
| ·实验条件优化 | 第33-37页 |
| ·计算机辅助设计 | 第33-34页 |
| ·聚合液用量的影响 | 第34页 |
| ·电聚合方法比较 | 第34-35页 |
| ·预组装及电聚合pH值优化 | 第35页 |
| ·电聚合时间优化 | 第35-36页 |
| ·模板分子的洗脱 | 第36-37页 |
| ·RGO-MIES表征 | 第37-39页 |
| ·石墨烯修饰电极和MIES膜的扫描电子显微镜表征 | 第37页 |
| ·RGO-MIES制备过程的电化学行为表征 | 第37-39页 |
| ·RGO-MIES性能与评价 | 第39-41页 |
| ·动态吸附实验 | 第39-40页 |
| ·静态吸附实验 | 第40页 |
| ·选择性吸附试验 | 第40-41页 |
| ·稳定性和重现性 | 第41页 |
| ·样品测定方法学研究 | 第41-43页 |
| ·标准曲线与检测限 | 第41-42页 |
| ·实际样品分析 | 第42-43页 |
| 4 本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-52页 |
| 综述 | 第52-72页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 硕士期间发表论文及申请专利 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |