单级衍射光栅的设计与制作

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
第一章 绪论	第8-15页
·衍射光栅的发展	第8-9页
·X射线衍射光栅的应用	第9-12页
·衍射光栅的国内外进展	第12-13页
·单级衍射光栅的提出与发展	第13-14页
·论文的主要结构	第14-15页
第二章 准周期单级衍射透射光栅的设计与制作	第15-22页
·准周期单级衍射光栅原理介绍	第15-17页
·1000线/毫米准周期单级衍射光栅制作工艺	第17-21页
·本章小结	第21-22页
第三章 关键工艺技术研究	第22-41页
·薄膜技术	第22-23页
·硅的湿法腐蚀	第23-24页
·电子束蒸发	第24页
·电子束光刻技术	第24-31页
·电子束抗蚀剂	第27-28页
·电子束光刻工艺参数	第28-29页
·电子束光刻图形拼差及解决办法	第29-30页
·邻近效应产生原理及解决办法	第30-31页
·等离子体刻蚀技术	第31-32页
·微电镀技术	第32-35页
·X光复刻技术	第35-40页
·X射线光源	第35-36页
·光刻站介绍及光谱优化	第36-38页
·纳米尺度X射线光刻工艺	第38-40页
·光学光刻	第40页
·本章小结	第40-41页
第四章 准周期单级衍射光栅测试	第41-45页
·准周期反射光栅原理	第41页
·实验论证及测试结果	第41-44页
·本章小结	第44-45页
第五章 总结与展望	第45-46页
参考文献	第46-48页
致谢	第48页