| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·高介电薄膜材料 | 第9-14页 |
| ·电介质的基本理论 | 第10页 |
| ·BST铁电薄膜的基本理论与研究现状 | 第10-12页 |
| ·巨介电材料CCTO的基本理论与研究现状 | 第12-13页 |
| ·多层薄膜的研究现状 | 第13-14页 |
| ·高介电薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
| ·激光脉冲沉积(PLD)法 | 第15页 |
| ·磁控溅射法 | 第15-16页 |
| ·CVD法 | 第16页 |
| ·本论文的主要工作 | 第16-19页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制膜工艺设计与表征方法 | 第19-27页 |
| ·溶胶-凝胶法制膜工艺设计 | 第19-21页 |
| ·实验使用的药品与设备 | 第19页 |
| ·薄膜样品的主要制备工艺流程 | 第19-21页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第21-25页 |
| ·X射线衍射 | 第21页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| ·热分析 | 第22页 |
| ·四探针测试 | 第22-24页 |
| ·介电性能表征 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 缓冲层制备及性能研究 | 第27-41页 |
| ·前言 | 第27页 |
| ·缓冲层的基本理论 | 第27-28页 |
| ·镍酸镧缓冲层的溶胶-凝胶制备及性能分析 | 第28-38页 |
| ·实验过程 | 第28-32页 |
| ·镍酸镧前驱凝胶粉末热分析 | 第32-33页 |
| ·镍酸镧薄膜的XRD和SEM分析 | 第33-37页 |
| ·缓冲层薄膜电阻率 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-41页 |
| 第四章 溶胶-胶法制备钛酸锶钡和钛酸铜钙薄膜 | 第41-57页 |
| ·钛酸锶钡薄膜的溶胶-凝胶法制备及表征 | 第41-47页 |
| ·前言 | 第41页 |
| ·实验过程 | 第41-42页 |
| ·钛酸锶钡前驱粉末热分析 | 第42-43页 |
| ·钛酸锶钡薄膜的结构 | 第43-45页 |
| ·钛酸锶钡薄膜的表面形貌 | 第45-47页 |
| ·钛酸铜钙薄膜的溶胶-凝胶法制备及表征 | 第47-55页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·实验过程 | 第47-48页 |
| ·工艺优化实验 | 第48-51页 |
| ·钛酸铜钙薄膜的结构 | 第51-54页 |
| ·钛酸铜钙薄膜的表面形貌 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 溶胶-凝胶法制备钛酸铜钙/钛酸锶钡多层膜及性能分析 | 第57-75页 |
| ·前言 | 第57页 |
| ·钛酸锶钡/钛酸铜钙多层膜制备工艺流程 | 第57-59页 |
| ·薄膜交替次序与厚度设定 | 第57-58页 |
| ·镀膜流程及电极的引出 | 第58-59页 |
| ·实验结果及表征 | 第59-73页 |
| ·钛酸锶钡/钛酸铜钙多层膜的XRD分析 | 第59-64页 |
| ·BST/CCTO多层薄膜不同交替顺序的形貌分析 | 第64-67页 |
| ·BST/CCTO多层膜不同交替顺序的电学性能分析 | 第67-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第六章 总结与展望 | 第75-77页 |
| ·工作总结 | 第75-76页 |
| ·工作展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-87页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89页 |