硅基多孔阳极氧化铝模板的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·纳米科技 | 第8页 |
| ·纳米材料的分类 | 第8-9页 |
| ·纳米材料的特性 | 第9页 |
| ·纳米材料的制备 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的表征 | 第10-13页 |
| ·红外光谱及激光拉曼光谱 | 第10-11页 |
| ·X射线衍射 | 第11页 |
| ·电子显微技术 | 第11-12页 |
| ·原子力显微镜 | 第12-13页 |
| ·本文的结构及主要研究内容 | 第13-14页 |
| 参考文献 | 第14-15页 |
| 第二章 多孔阳极氧化铝的研究进展及其应用 | 第15-29页 |
| ·历史与现状 | 第15-18页 |
| ·PAA膜的多样化形式的发展历程 | 第15-16页 |
| ·制备大面积有序PAA膜的新方法 | 第16-18页 |
| ·结构与生长机理模型 | 第18-24页 |
| ·多孔阳极氧化铝的结构 | 第18-21页 |
| ·多孔阳极氧化铝的生长机理模型 | 第21-24页 |
| ·应用 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第三章 FIB诱导与多面多孔阳极氧化铝 | 第29-40页 |
| ·实验 | 第29-31页 |
| ·实验材料与设备 | 第29-30页 |
| ·多孔阳极氧化铝的制备工艺过程 | 第30-31页 |
| ·结果及分析 | 第31-38页 |
| ·阳极氧化电流曲线的研究 | 第31-32页 |
| ·FIB刻蚀诱导多孔阳极氧化铝生长 | 第32-33页 |
| ·多面PAA膜及局域电解液浓度影响 | 第33-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第四章 硅基微纳铝膜的制备 | 第40-47页 |
| ·微纳薄膜的制备方法 | 第40-43页 |
| ·磁控溅射原理 | 第40-42页 |
| ·磁控溅射的成膜过程 | 第42页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第42-43页 |
| ·磁控溅射沉积铝膜 | 第43-44页 |
| ·硅片的预处理 | 第43-44页 |
| ·钛膜的沉积 | 第44页 |
| ·铝膜的沉积 | 第44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第五章 硅基多孔阳极氧化铝 | 第47-54页 |
| ·硅基PAA模板制备的工艺 | 第47-48页 |
| ·结果与分析 | 第48-52页 |
| ·抛光对硅基PAA模板形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·氧化时间对硅基PAA模板形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·镀膜工艺对硅基PAA模板形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·扩孔对硅基PAA模板形貌的影响 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 总结与展望 | 第54-56页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
