Mo薄膜的制备工艺与性能的相关性研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·Mo的性质 | 第12-14页 |
| ·Mo的物理性能 | 第12-13页 |
| ·Mo的化学性能 | 第13-14页 |
| ·Mo主要用途 | 第14页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池 | 第14-16页 |
| ·CIGS太阳电池的工作原理 | 第15页 |
| ·CIGS太阳电池的结构 | 第15-16页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池的背电极 | 第16-19页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池背电极的选材 | 第16-18页 |
| ·背电极Mo薄膜国内外研究现状 | 第18页 |
| ·背电极Mo薄膜的研究意义 | 第18-19页 |
| ·本论文研究的内容和意义 | 第19-20页 |
| 第二章 Mo薄膜的制备工艺和表征手段 | 第20-30页 |
| ·Mo薄膜的制备方法 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射镀膜技术简介 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射镀膜的优点 | 第21页 |
| ·薄膜的形成与生长 | 第21-23页 |
| ·薄膜的形成与生长概述 | 第21-22页 |
| ·薄膜的行核与生长 | 第22-23页 |
| ·溅射薄膜的生长模式 | 第23页 |
| ·Mo薄膜的制备装置、制备流程以及表征手段 | 第23-30页 |
| ·制备装置 | 第23-24页 |
| ·Mo薄膜的制备流程 | 第24-26页 |
| ·Mo薄膜的表征方法 | 第26-30页 |
| 第三章 双层Mo薄膜的工艺参数对薄膜性能的影响 | 第30-54页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·双层Mo薄膜的制备工艺与性能的相关性研究 | 第31-38页 |
| ·实验条件 | 第31页 |
| ·Mo薄膜的相结构 | 第31-33页 |
| ·Mo薄膜的表面形貌 | 第33-34页 |
| ·Mo薄膜的电阻率 | 第34-36页 |
| ·Mo薄膜的电阻率-温度关系 | 第36-38页 |
| 本节小结 | 第38页 |
| ·退火温度对双层Mo薄膜的结构和性能的影响 | 第38-47页 |
| ·实验条件 | 第38-39页 |
| ·退火温度对Mo薄膜晶体结构的影响 | 第39-42页 |
| ·退火温度对Mo薄膜表面形貌的影响 | 第42-45页 |
| ·退火温度对Mo薄膜电性能的影响 | 第45-47页 |
| 本节小结 | 第47页 |
| ·衬底温度对双层Mo薄膜结构和性能的影响 | 第47-54页 |
| ·实验条件 | 第48页 |
| ·衬底温度对Mo薄膜晶体结构的影响 | 第48-50页 |
| ·衬底温度对Mo薄膜表面形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·衬底温度对Mo薄膜电性能的影响 | 第51-53页 |
| 本节小结 | 第53-54页 |
| 第四章 溅射时间对Mo薄膜取向和性能的影响 | 第54-61页 |
| ·实验条件 | 第54页 |
| ·薄膜的相结构 | 第54-58页 |
| ·薄膜的表面及断面形貌 | 第58-59页 |
| ·薄膜的电性能 | 第59-60页 |
| 本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第69页 |
