纳米多孔硅光波导器件的制备及其特性研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第11-15页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第15-20页 |
| ·多孔硅的应用 | 第20-23页 |
| ·光学器件 | 第23-26页 |
| ·波导光栅耦合器 | 第26-27页 |
| ·本论文研究目的及主要内容 | 第27-28页 |
| 第二章 纳米多孔硅的制备 | 第28-33页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·电化学腐蚀法及原理 | 第28-29页 |
| ·实验装置 | 第29页 |
| ·实验步骤 | 第29-31页 |
| ·分析方法 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 纳米多孔硅折射率的研究 | 第33-44页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·理论部分 | 第33-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 波导光栅耦合器的基本理论 | 第44-48页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·波导光栅耦合器的结构 | 第44-45页 |
| ·布拉格条件 | 第45-46页 |
| ·严格耦合波分析法(RCWA) | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 纳米多孔硅光波导器件 | 第48-58页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·纳米多孔硅Bragg反射镜的制备 | 第48-49页 |
| ·纳米多孔硅波导光栅耦合器 | 第49-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58页 |
| ·展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 在读期间发表、投稿的论文 | 第68页 |