| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 引言 | 第10-23页 |
| ·红外光学材料 | 第10-15页 |
| ·红外光学材料的分类 | 第11-13页 |
| ·红外光学材料的要求 | 第13-15页 |
| ·ZnS结构及制备方法 | 第15-17页 |
| ·国内外研究发展现状 | 第17-19页 |
| ·国外发展现状 | 第17-18页 |
| ·国内发展现状 | 第18-19页 |
| ·数值模拟在CVD中的应用 | 第19-22页 |
| ·本文的目的和意义 | 第22-23页 |
| 2 化学气相沉积 | 第23-39页 |
| ·化学气相沉积过程影响因素 | 第23-31页 |
| ·热力学因素 | 第23-24页 |
| ·过程动力学因素 | 第24-30页 |
| ·压力因素 | 第30-31页 |
| ·流体力学基本原理和方程 | 第31-34页 |
| ·基本概念和原理 | 第32-33页 |
| ·CFD基本方程 | 第33-34页 |
| ·CVD过程中气体流型的理论模型 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 3 计算机模拟仿真 | 第39-49页 |
| ·CVD系统三维模型的建立 | 第39-40页 |
| ·网格的划分 | 第40-42页 |
| ·边界条件的确定 | 第42-47页 |
| ·实验数据采集 | 第42-44页 |
| ·确定流场状态 | 第44页 |
| ·理论假设 | 第44-45页 |
| ·施加边界条件 | 第45-47页 |
| ·收敛及结果 | 第47-48页 |
| ·设定收敛精度 | 第47-48页 |
| ·查看计算结果 | 第48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 4 模拟结果与分析 | 第49-64页 |
| ·工艺参数对沉积室内流场的影响 | 第52-57页 |
| ·流量对沉积室内气体流型的影响 | 第52-53页 |
| ·不同AR_1/Ar_2值对沉积室内气体流型的影响 | 第53-54页 |
| ·不同沉积压力对气体流型的影响 | 第54-55页 |
| ·不同Zn/H_2S摩尔比对沉积室气体流型影响 | 第55-56页 |
| ·不同沉积室形状对气体流型影响 | 第56-57页 |
| ·不同工艺参数对沉积速率的影响 | 第57-62页 |
| ·不同流量对沉积速率影响 | 第57-58页 |
| ·不同Ar_1/Ar_2值对沉积速率的影响 | 第58-59页 |
| ·不同沉积压力对沉积速率的影响 | 第59-60页 |
| ·不同Zn/H_2S摩尔比对沉积速率的影响 | 第60-61页 |
| ·不同沉积室尺寸对沉积速率分布的影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 5 实验验证 | 第64-71页 |
| ·不同工艺参数对沉积厚度分布的影响 | 第65-69页 |
| ·不同流量对厚度分布均匀性的影响 | 第65-66页 |
| ·不同Ar_1/Ar_2比值对厚度分布均匀性的影响 | 第66页 |
| ·不同沉积压力对厚度分布均匀性的影响 | 第66-67页 |
| ·不同Zn/H_2S摩尔比对ZnS生长速率的影响 | 第67-68页 |
| ·不同沉积室尺寸对沉积速率分布的影响 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 6 工艺调整与改进 | 第71-74页 |
| ·工艺参数调整后的实验结果 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |