| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·金刚石的结构、性能及应用 | 第8-12页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第8-10页 |
| ·金刚石的性能及应用 | 第10-12页 |
| ·硼掺杂金刚石薄膜的研究进展 | 第12-16页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的制备方法 | 第12-13页 |
| ·金刚石薄膜的硼掺杂方法 | 第13页 |
| ·金刚石薄膜基体材料的选择 | 第13-14页 |
| ·金刚石薄膜表面修饰 | 第14-16页 |
| ·硼掺杂金刚石薄膜电极的特性与应用 | 第16-20页 |
| ·硼掺杂金刚石薄膜电极的电化学特性 | 第17-19页 |
| ·硼掺杂金刚石薄膜电极的应用 | 第19-20页 |
| ·本课题研究的意义和内容 | 第20-22页 |
| 第二章 样品制备与表征 | 第22-30页 |
| ·薄膜沉积设备 | 第22-23页 |
| ·实验 | 第23-24页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·基体预处理 | 第23页 |
| ·灯丝预处理 | 第23页 |
| ·实验流程图 | 第23-24页 |
| ·样品的表征与测试 | 第24-30页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| ·激光拉曼光谱仪 | 第25页 |
| ·原子力显微镜 | 第25-26页 |
| ·X射线衍射仪 | 第26-27页 |
| ·维氏硬度仪 | 第27-28页 |
| ·电化学测试 | 第28-30页 |
| 第三章 沉积工艺对Nb/金刚石薄膜生长的影响 | 第30-46页 |
| ·基体温度对金刚石薄膜的影响 | 第30-34页 |
| ·金刚石膜的表面形貌分析 | 第30-31页 |
| ·金刚石膜的激光拉曼光谱的分析 | 第31-33页 |
| ·XRD物相成分分析 | 第33-34页 |
| ·金刚石膜的维氏压痕分析 | 第34页 |
| ·甲烷浓度对金刚薄膜的影响 | 第34-38页 |
| ·金刚石膜的表面形貌分析 | 第35-36页 |
| ·金刚石膜的激光拉曼光谱的分析 | 第36-37页 |
| ·XRD物相成分分析 | 第37-38页 |
| ·沉积气压对金刚石薄膜的影响 | 第38-42页 |
| ·金刚石膜的表面形貌分析 | 第39-40页 |
| ·金刚石膜的激光拉曼光谱的分析 | 第40-41页 |
| ·XRD物相成分分析 | 第41-42页 |
| ·金刚石薄膜截面的研究 | 第42-44页 |
| ·金刚石薄膜截面形貌及模型 | 第42-43页 |
| ·不同沉积时间下金刚石薄膜平均线生长速率 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 硼掺杂对Nb/金刚石薄膜的影响 | 第46-57页 |
| ·金刚石膜的表面形貌分析 | 第46-47页 |
| ·金刚石膜的原子力显微分析 | 第47-49页 |
| ·金刚石膜的激光拉曼光谱的分析 | 第49-50页 |
| ·薄膜中实际掺入硼原子浓度计算 | 第50-53页 |
| ·XRD物相分析 | 第53-55页 |
| ·硼烷浓度对金刚石薄膜线生长速率的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 Nb/BDD电极电化学性能的研究 | 第57-69页 |
| ·循环伏安法测试原理 | 第57-58页 |
| ·硼烷浓度对BDD电极的电势窗口和背景电流的影响 | 第58-61页 |
| ·硼掺杂浓度对BDD电极电化学反应的动力学及可逆性影响 | 第61-66页 |
| ·金刚石薄膜测试前后表面形貌对比 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第80页 |