磁控溅射镀膜机基片膜厚的均匀性分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-17页 |
| ·磁控溅射镀膜技术的概况 | 第11-12页 |
| ·膜厚均匀性的研究现状及发展动向 | 第12-14页 |
| ·国外研究现状 | 第12-13页 |
| ·国内研究现状 | 第13-14页 |
| ·课题的研究内容及方法 | 第14-15页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第14-15页 |
| ·本课题研究方法 | 第15页 |
| ·小结 | 第15-17页 |
| 第2章 磁控溅射原理和镀膜装置 | 第17-27页 |
| ·溅射成膜的特性 | 第17-20页 |
| ·溅射过程 | 第17-18页 |
| ·薄膜生长模式及形成过程 | 第18-19页 |
| ·溅射机理 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射原理 | 第20-22页 |
| ·溅射靶的刻蚀 | 第22页 |
| ·小平面靶磁控溅射镀膜装置 | 第22-24页 |
| ·小平面靶磁控溅射基片装置的工作原理 | 第24-25页 |
| ·小平面靶磁控溅射基片装置的结构参数 | 第25-27页 |
| 第3章 基片膜厚分布的计算机模拟 | 第27-69页 |
| ·膜厚分布模型 | 第27-29页 |
| ·膜厚分布的几何模型 | 第27-28页 |
| ·膜厚分布的数学模型 | 第28-29页 |
| ·膜厚值的计算与膜厚均匀性的分析 | 第29-68页 |
| ·MATLAB GUI的功能介绍 | 第30页 |
| ·MATLAB中的曲线拟合 | 第30-31页 |
| ·基片自转时的膜厚均匀性的分析 | 第31-68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 第4章 磁控溅射镀膜装置的结构设计 | 第69-71页 |
| ·磁控溅射镀膜装置的参数选择 | 第69页 |
| ·磁控溅射镀膜装置的设计 | 第69-71页 |
| ·Pro/Engineer齿轮的实体造型设计 | 第69-70页 |
| ·磁控溅射镀膜装置的三维模型示意图 | 第70-71页 |
| 第5章 实验与数据处理 | 第71-77页 |
| ·实验装置及样品制备 | 第71-73页 |
| ·实验装置 | 第71-72页 |
| ·样品制备 | 第72-73页 |
| ·膜厚测量 | 第73-75页 |
| ·膜厚测量仪器 | 第73-74页 |
| ·膜厚测量结果 | 第74-75页 |
| ·数据处理 | 第75-77页 |
| 第6章 结论与展望 | 第77-79页 |
| ·结论 | 第77-78页 |
| ·展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
