24kV杯状纵磁真空灭弧室设计
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·真空断路器的应用及国内外发展现状 | 第11-13页 |
| ·真空断路器的应用与发展 | 第11页 |
| ·国内外真空断路器的发展概况 | 第11-13页 |
| ·课题研究背景 | 第13-14页 |
| ·本文主要研究工作 | 第14-16页 |
| 第二章 真空灭弧室的工作机理与特性 | 第16-24页 |
| ·真空的绝缘特性 | 第16-17页 |
| ·真空间隙击穿机理 | 第17-18页 |
| ·场致发射学说 | 第17-18页 |
| ·微粒撞击学说 | 第18页 |
| ·真空电弧的现象与形态 | 第18-19页 |
| ·真空电弧控制技术 | 第19-22页 |
| ·电弧形态的变换 | 第20-21页 |
| ·横向磁场触头结构灭弧原理 | 第21页 |
| ·纵向磁场结构的灭弧原理 | 第21-22页 |
| ·真空灭弧室弧后介质恢复特性 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 真空灭弧室结构设计 | 第24-31页 |
| ·绝缘外壳的设计 | 第24-25页 |
| ·屏蔽罩设计 | 第25-27页 |
| ·触头结构的设计及材料的选择 | 第27-29页 |
| ·触头结构设计 | 第27-28页 |
| ·触头材料的选择 | 第28-29页 |
| ·波纹管设计 | 第29页 |
| ·导电杆直径设计 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 真空灭弧室绝缘设计 | 第31-44页 |
| ·有限元法 | 第32-33页 |
| ·电场计算的边界条件与数学模型 | 第33页 |
| ·24kV真空灭弧室内部电场优化 | 第33-41页 |
| ·悬浮屏蔽罩端部圆角开口方向的确定 | 第33-37页 |
| ·优化模型的建立 | 第37-38页 |
| ·优化结果及分析 | 第38-41页 |
| ·瓷套绝缘的计算验证 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 真空灭弧室三维磁场的计算与分析 | 第44-60页 |
| ·电磁场基本理论 | 第44-46页 |
| ·真空灭弧室触头结构建模 | 第46-55页 |
| ·触头结构模型的建立 | 第46-47页 |
| ·电流密度数值计算与结果分析 | 第47-50页 |
| ·磁场数值计算与结果分析 | 第50-55页 |
| ·具有铁芯的杯状纵磁触头三维纵向磁场的计算与分析 | 第55-59页 |
| ·铁芯结构模型 | 第55-56页 |
| ·铁芯触头结构的纵磁计算及分析 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 全文总结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 在学研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
