| 中文摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-34页 |
| ·引言 | 第9-13页 |
| ·纳米科技与纳米材料 | 第9-10页 |
| ·一维纳米材料的研究简介 | 第10-12页 |
| ·发光材料器件的研究简介 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第13-15页 |
| ·ZnO 的结构与性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO 的生长形态 | 第14-15页 |
| ·一维纳米ZnO材料的特性 | 第15-16页 |
| ·光学特性 | 第15-16页 |
| ·场发射性能 | 第16页 |
| ·传输特性 | 第16页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第16-19页 |
| ·光电器件 | 第17页 |
| ·太阳能电极材料 | 第17页 |
| ·压电器件 | 第17-18页 |
| ·气敏元件 | 第18页 |
| ·与GaN互作缓冲层 | 第18-19页 |
| ·ZnO材料的研究现状 | 第19-24页 |
| ·ZnO纳米材料的特殊形态及性质 | 第19-20页 |
| ·纳米ZnO与其他材料的复合 | 第20-21页 |
| ·纳米ZnO光电性能的研究 | 第21-24页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第24-31页 |
| ·磁控溅射 | 第24-25页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第25页 |
| ·喷雾热分解 | 第25页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第25-26页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第26页 |
| ·溶胶－凝胶法 | 第26-27页 |
| ·电化学沉积法 | 第27-31页 |
| ·基于溶胶-凝胶的涂层方法制备TiO_2薄膜 | 第31-32页 |
| ·本课题研究目的意义和主要内容 | 第32-34页 |
| ·研究目的及意义 | 第32-33页 |
| ·研究主要内容 | 第33-34页 |
| 第2章 实验材料及实验方法 | 第34-42页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第34-36页 |
| ·实验试剂 | 第34页 |
| ·实验仪器及设备 | 第34-35页 |
| ·电化学反应系统简述 | 第35-36页 |
| ·基片的清洗与处理 | 第36-37页 |
| ·材料表征方法 | 第37-39页 |
| ·X-射线衍射仪 | 第37-38页 |
| ·场发射扫描电子显微镜 | 第38页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第38页 |
| ·拉曼光谱仪 | 第38-39页 |
| ·光致发光光谱仪 | 第39页 |
| ·TiO_2纳米粒子薄膜电极的制备 | 第39-42页 |
| ·TiO_2提拉底膜的制备 | 第40页 |
| ·TiO_2水热膏体的制备 | 第40-41页 |
| ·TiO_2纳米粒子薄膜的制备 | 第41页 |
| ·电极的封装 | 第41-42页 |
| 第3章 纳米ZnO 在TiO_2薄膜上的电化学沉积 | 第42-56页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验部分 | 第42-43页 |
| ·实验方案 | 第42页 |
| ·样品的表征 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-48页 |
| ·循环伏安测试(CV) | 第43-44页 |
| ·扫描电子显微镜测试(SEM) | 第44-45页 |
| ·X-射线衍射测试(XRD) | 第45-46页 |
| ·能谱元素分析(EDS) | 第46-47页 |
| ·荧光光谱测试(PL) | 第47-48页 |
| ·沉积条件对ZnO微观结构的影响 | 第48-53页 |
| ·电解液浓度对ZnO微观结构的影响 | 第48-50页 |
| ·沉积时间对ZnO微观结构的影响 | 第50-51页 |
| ·基底薄膜对ZnO微观结构的影响 | 第51-52页 |
| ·沉积条件对ZnO微观结构影响的机制分析 | 第52-53页 |
| ·电化学沉积ZnO薄膜的反应过程和机理研究 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 六次甲基四胺对 ZnO 电沉积的影响 | 第56-64页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验部分 | 第56-57页 |
| ·样品的制备 | 第56页 |
| ·样品的表征 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-61页 |
| ·扫描电子显微镜测试(SEM) | 第57-58页 |
| ·X-射线衍射测试(XRD) | 第58-59页 |
| ·紫外-可见吸收光谱测试(UV-vis) | 第59-61页 |
| ·荧光光谱测试(PL) | 第61页 |
| ·HMT辅助电化学沉积的反应机理分析 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第5章 TiO_2薄膜基底对ZnO 电沉积的影响 | 第64-71页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·实验部分 | 第64-65页 |
| ·釜前溶胶薄膜的制备 | 第64页 |
| ·提拉溶胶薄膜的制备 | 第64页 |
| ·样品的表征 | 第64-65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-70页 |
| ·扫描电子显微镜测试(SEM) | 第65-66页 |
| ·拉曼光谱测试(Raman)和X-射线衍射测试(XRD) | 第66-68页 |
| ·紫外-可见吸收光谱测试(UV-vis) | 第68-69页 |
| ·荧光光谱测试(PL) | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第88-89页 |