新型有机—无机杂化非线性光学材料的制备与性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-49页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·非线性光学材料的研究进展 | 第8-30页 |
| ·无机非线性光学材料 | 第9-11页 |
| ·有机小分子非线性光学材料 | 第11-17页 |
| ·聚合物非线性光学材料 | 第17-21页 |
| ·金属有机配合物非线性光学材料 | 第21-25页 |
| ·有机/无机杂化非线性光学材料 | 第25-30页 |
| ·POSS基有机/无机杂化材料 | 第30-32页 |
| ·课题的提出 | 第32-33页 |
| ·课题主要内容及可行性分析 | 第33-35页 |
| ·单体的合成 | 第33页 |
| ·单体与POSS加成反应 | 第33-34页 |
| ·结构表征与性能研究 | 第34页 |
| ·可行性分析 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-49页 |
| 第二章 小分子材料的合成及表征 | 第49-77页 |
| ·前言 | 第49页 |
| ·设计的目标单体和合成路线 | 第49-51页 |
| ·目标单体 | 第49-50页 |
| ·单体的合成路线 | 第50-51页 |
| ·单体化合物合成实验及结构分析 | 第51-61页 |
| ·合成所用主要试剂及原料 | 第51页 |
| ·主要仪器 | 第51-52页 |
| ·无水试剂的制备 | 第52页 |
| ·合成实验和结构分析 | 第52-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 附图 | 第64-77页 |
| 第三章 大分子的合成、表征及热性能研究 | 第77-105页 |
| ·前言 | 第77-78页 |
| ·主要原料和使用仪器 | 第78页 |
| ·主要原料 | 第78页 |
| ·主要使用仪器 | 第78页 |
| ·主要试剂的精制 | 第78-79页 |
| ·无水四氢呋喃的制备 | 第78-79页 |
| ·无水1，4-二氧六环的制备 | 第79页 |
| ·无水甲苯的制备 | 第79页 |
| ·POSS基有机/无机杂化材料的合成 | 第79-85页 |
| ·T_8H_8的合成及表征 | 第79页 |
| ·催化剂Pt(dcp)的合成 | 第79页 |
| ·目标大分子的合成 | 第79-83页 |
| ·结果与讨论 | 第83-85页 |
| ·加成结果分析 | 第85-91页 |
| ·M1-M3与T_8H_8加成结果分析 | 第85-87页 |
| ·M4-M6与T_8H_8加成结果分析 | 第87-91页 |
| ·大分子的热性能分析 | 第91-95页 |
| ·结论 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-99页 |
| 附图 | 第99-105页 |
| 第四章 单体和大分子的光学性能研究 | 第105-119页 |
| ·单体和大分子紫外光谱表征 | 第105-107页 |
| ·单烯系列单体及其加成产物紫外谱图分析 | 第105-106页 |
| ·双烯系列单体及其加成产物紫外谱图分析 | 第106-107页 |
| ·单体和大分子非线性光学性能 | 第107-117页 |
| ·Z-扫描的基本原理 | 第107-109页 |
| ·Z-扫描测试实验 | 第109页 |
| ·三阶非线性光学系数的计算 | 第109-110页 |
| ·单体和大分子的非线性光学性能研究 | 第110-117页 |
| ·结论 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |
| 硕士期间发表或接受的论文 | 第120页 |
