电解阳极氧化制备TiO2纳米多孔膜及其结构研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·纳米材料 | 第10-11页 |
| ·纳米TiO_2 | 第11-26页 |
| ·纳米TiO_2光催化作用 | 第12-14页 |
| ·纳米TiO_2的光电效应 | 第14页 |
| ·纳米TiO_2的应用 | 第14-18页 |
| ·纳米TiO_2的制备 | 第18-26页 |
| ·本课题研究目的及意义 | 第26页 |
| ·研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 实验设备和实验原理 | 第28-34页 |
| ·实验材料及设备 | 第28页 |
| ·主要化学试剂 | 第28页 |
| ·实验结果检测 | 第28-29页 |
| ·实验原理 | 第29-34页 |
| ·"电极/溶液"界面附近液相中的传质过程 | 第30-31页 |
| ·电化学步骤的动力学 | 第31-32页 |
| ·实验机理 | 第32-34页 |
| 第三章 阳极氧化金属钛片制备纳米多孔膜的研究 | 第34-48页 |
| ·实验方法和工艺选择 | 第34-36页 |
| ·实验方法的选择 | 第34页 |
| ·实验工艺 | 第34-35页 |
| ·实验流程 | 第35-36页 |
| ·实验结果和分析 | 第36-45页 |
| ·电压对钛阳极氧化的影响 | 第36-38页 |
| ·电解氧化时间对钛阳极氧化的影响 | 第38-40页 |
| ·电解液对钛阳极氧化的影响 | 第40-44页 |
| ·退火温度对TiO_2多孔膜的影响 | 第44-45页 |
| ·氧化膜生长模型 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 多弧离子镀在制备TO_2多孔膜中的应用 | 第48-60页 |
| ·镀膜设备 | 第48-51页 |
| ·多弧离子镀膜机的工作机理 | 第51-52页 |
| ·离子镀膜的特点 | 第52页 |
| ·实验方法 | 第52-58页 |
| ·基片清洗 | 第52-53页 |
| ·镀膜实验工艺流程 | 第53-54页 |
| ·工艺参数的设定 | 第54-57页 |
| ·退火温度对TiO_2纳米管晶型的影响 | 第57-58页 |
| ·本章结论 | 第58-60页 |
| 全文结论 | 第60-62页 |
| 本文特色与创新 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
