摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-13页 |
1 绪论 | 第13-30页 |
·金属腐蚀与防护技术概述 | 第13-20页 |
·碳钢的腐蚀机理研究 | 第14-16页 |
·传统的碳钢腐蚀与防护技术 | 第16-18页 |
·新型的碳钢腐蚀与防护技术 | 第18页 |
·膜技术的发展和研究现状 | 第18-20页 |
·膜技术中存在的问题、应用前景及最新发展动态 | 第20页 |
·硅烷偶联剂概述 | 第20-25页 |
·硅烷偶联剂的发展历史 | 第21页 |
·硅烷偶联剂的分类 | 第21-22页 |
·硅烷偶联剂的应用 | 第22-25页 |
·硅烷偶联剂用作表面处理剂 | 第22-23页 |
·硅烷偶联剂应用于复合材料中 | 第23-24页 |
·硅烷偶联剂在涂料中的应用 | 第24页 |
·硅烷偶联剂在金属表面预处理中的应用 | 第24-25页 |
·杂化膜概述 | 第25-26页 |
·杂化膜的制备技术 | 第25页 |
·杂化膜的应用 | 第25-26页 |
·电化学测试概述 | 第26-28页 |
·电化学测试概述 | 第26页 |
·电化学工作站的基本原理及应用 | 第26-28页 |
·交流阻抗的原理和应用 | 第26-27页 |
·动电位极化扫描 | 第27-28页 |
·本文的立体依据及主要研究内容 | 第28-30页 |
·本文的立体依据 | 第28页 |
·主要研究内容 | 第28-30页 |
2 碳钢表面硅烷膜的制备及性能研究 | 第30-47页 |
·引言 | 第30页 |
·实验试剂、实验仪器和设备 | 第30-31页 |
·实验试剂 | 第30-31页 |
·实验仪器与设备 | 第31页 |
·硅烷膜的制备与表征 | 第31-33页 |
·碳钢试样的预处理 | 第31页 |
·不同浓度硅烷溶液的配置 | 第31-32页 |
·硅烷溶液水解时间的确定 | 第32页 |
·硅烷膜的制备 | 第32页 |
·碳钢表面硅烷膜的制备过程示意图 | 第32-33页 |
·VTOS 硅烷膜和BTESPT 硅烷膜的表征 | 第33页 |
·扫描电镜与能谱的表征 | 第33页 |
·电化学测试 | 第33页 |
·实验结果与讨论 | 第33-45页 |
·硅烷水解机理 | 第33-34页 |
·硅烷缩聚机理 | 第34-35页 |
·VTOS 硅烷溶液电导率随水解时间变化的表征分析 | 第35-36页 |
·VTOS 动电位极化曲线的分析 | 第36-39页 |
·不同体积比BTESPT 硅烷膜动电位极化曲线分析 | 第39-40页 |
·不同体积比BTESPT 硅烷膜EIS 曲线分析 | 第40-42页 |
·碳钢及硅烷膜表面形貌表征 | 第42-43页 |
·碳钢及硅烷膜元素分布 | 第43-44页 |
·pH 值对硅烷水解的影响 | 第44-45页 |
·硅烷在金属表面的成膜机理 | 第45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
3 硅烷/铈盐杂化膜的制备及性能表征 | 第47-59页 |
·引言 | 第47页 |
·实验试剂、实验仪器和设备 | 第47-48页 |
·实验试剂 | 第47-48页 |
·实验仪器与设备 | 第48页 |
·实验 | 第48-49页 |
·硅烷/硝酸铈盐溶液的配置 | 第48页 |
·杂化膜的制备 | 第48-49页 |
·实验结果与分析 | 第49-58页 |
·不同硅烷/ Ce(N0_3)_3 修饰碳钢电极的动电位极化曲线分析 | 第49-50页 |
·不同硅烷/ Ce(N0_3)_3 杂化膜电极的EIS 分析 | 第50-54页 |
·杂化膜的表面形貌和组成元素分析 | 第54-55页 |
·杂化膜的成膜机理 | 第55-57页 |
·硅烷膜与硅烷/铈盐杂化膜电化学性能比较 | 第57-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
4 硅烷/铈盐/正硅酸乙酯杂化膜的制备及性能表征 | 第59-71页 |
·引言 | 第59-60页 |
·实验试剂 | 第60页 |
·实验仪器与设备 | 第60-61页 |
·实验 | 第61-62页 |
·硅烷/硝酸铈盐/正硅酸乙酯溶液的配置 | 第61页 |
·杂化膜的制备 | 第61-62页 |
·电化学结果与讨论 | 第62-66页 |
·杂化膜的动点位极化曲线 | 第62页 |
·杂化膜的EIS 曲线 | 第62-66页 |
·BTESPT/ CE(N0_3)_3 /TEOS 杂化膜的表面形貌 | 第66-67页 |
·BTESPT/ CE(N0_3)_3 /TEOS 杂化膜的组成元素 | 第67页 |
·396 CuS0_4 溶液点滴试验 | 第67-69页 |
·检测液的配置方法 | 第67页 |
·点滴实验终点的判断 | 第67-69页 |
·结论 | 第69-71页 |
5 结论与展望 | 第71-73页 |
·结论 | 第71-72页 |
·展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
个人简历 | 第80页 |
文章发表情况 | 第80页 |