| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·LiNbO_3 晶体简介 | 第10-14页 |
| ·LiNbO_3 的晶格结构和性质 | 第10-12页 |
| ·LiNbO_3 的本征结构缺陷 | 第12页 |
| ·LiNbO_3 晶体的能级结构 | 第12-13页 |
| ·LiNbO_3 晶体的光折变效应 | 第13-14页 |
| ·LiNbO_3 薄膜的制备及光致发光性能研究进展 | 第14-17页 |
| ·LiNbO_3 薄膜制备的研究现状 | 第14页 |
| ·LiNbO_3 光致发光性能的研究进展 | 第14-17页 |
| ·本文的研究内容及实验路线 | 第17-19页 |
| ·实验内容 | 第17页 |
| ·实验方案 | 第17-19页 |
| 第二章 LiNbO_3多层结构薄膜的制备 | 第19-32页 |
| ·LiNbO_3 薄膜的生长工艺 | 第19-20页 |
| ·LiNbO_3 薄膜的表征 | 第20-25页 |
| ·X 射线小角衍射 | 第20-23页 |
| ·电感耦合等离子体质谱（ICP-MS） | 第23页 |
| ·傅立叶变换红外吸收光谱（FT-IR） | 第23-24页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第24-25页 |
| ·生长条件对LiNbO_3 成膜的影响 | 第25-29页 |
| ·衬底温度对LiNbO_3 成膜的影响 | 第25-26页 |
| ·工作压强对LiNbO_3 成膜的影响 | 第26-27页 |
| ·Ar/O_2 流量比对LiNbO_3 成膜的影响 | 第27-29页 |
| ·SiO_2 过渡层对LiNbO_3 成膜的影响 | 第29-32页 |
| 第三章 LiNbO_3多层结构薄膜的光致发光性能 | 第32-40页 |
| ·光致发光性能理论及测量 | 第32-36页 |
| ·基本概念 | 第32页 |
| ·光致发光原理 | 第32-33页 |
| ·光致发光的表征 | 第33-35页 |
| ·光致发光的测量 | 第35-36页 |
| ·LiNbO_3/Si 结构薄膜的光致发光性能 | 第36-37页 |
| ·LiNbO_3/SiO_2/Si 结构薄膜的光致发光性能 | 第37-40页 |
| 第四章 LiNbO_3多层结构薄膜光致发光性能的影响因素 | 第40-54页 |
| ·生长条件对LiNbO_3/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第40-45页 |
| ·衬底温度对LiNbO_3/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第40-41页 |
| ·工作压强对LiNbO_3/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第41-43页 |
| ·Ar/O_2 流量比对LiNbO_3/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第43-44页 |
| ·溅射时间对LiNbO_3/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第44-45页 |
| ·生长条件对LiNbO_3/SiO_2/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第45-50页 |
| ·氧化时间对LiNbO_3/SiO_2/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第45-46页 |
| ·氧化压强对LiNbO_3/SiO_2/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第46-48页 |
| ·工作压强对LiNbO_3/SiO_2/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第48-49页 |
| ·Ar/O_2 流量比对LiNbO_3/SiO_2/Si 结构薄膜光致发光性能的影响 | 第49-50页 |
| ·LiNbO_3 多层结构薄膜光致发光机制的初步探讨 | 第50-54页 |
| 第五章 结论及展望 | 第54-56页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| ·展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第62页 |
| 攻读硕士学位期间参与的科研项目 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
