| 第一章 酞菁类化合物及其单晶生长方法概述 | 第1-29页 |
| ·酞菁的研究历史与现状 | 第9-14页 |
| ·酞菁的发展历史 | 第9-12页 |
| ·氮杂酞菁同系物 | 第12-14页 |
| ·有机单晶生长方法 | 第14-28页 |
| ·溶液生长方法 | 第14-17页 |
| ·降温法 | 第16页 |
| ·溶剂蒸发法 | 第16页 |
| ·溶剂扩散法 | 第16-17页 |
| ·凝胶法 | 第17页 |
| ·熔体生长方法 | 第17-26页 |
| ·助熔剂法 | 第18-22页 |
| ·缓冷法 | 第19-20页 |
| ·温度梯度法 | 第20-21页 |
| ·溶剂蒸发法 | 第21页 |
| ·助熔剂法在有机单晶生长上的应用 | 第21-22页 |
| ·提拉法 | 第22-24页 |
| ·下降法 | 第24-25页 |
| ·泡生法 | 第25-26页 |
| ·气相生长方法 | 第26-28页 |
| ·在酞菁化合物单晶生长方面本论文的主要工作及创新点 | 第28-29页 |
| 第二章 有机薄膜晶体管材料与器件的研究现状 | 第29-50页 |
| ·有机薄膜晶体管的发展历程 | 第29-32页 |
| ·有机薄膜晶体管的应用 | 第32-34页 |
| ·有源驱动显示 | 第32页 |
| ·大规模集成电路 | 第32-33页 |
| ·传感器 | 第33-34页 |
| ·超导材料制备 | 第34页 |
| ·有机激光 | 第34页 |
| ·有机薄膜场效应晶体管的基本结构及原理 | 第34-37页 |
| ·有机薄膜场效应晶体管的主要参数及公式 | 第37-40页 |
| ·有机薄膜场效应晶体管的基本材料 | 第40-45页 |
| ·p型有机半导体材料 | 第41-43页 |
| ·n型有机半导体材料 | 第43-44页 |
| ·双极型有机半导体材料 | 第44-45页 |
| ·有机薄膜晶体管的薄膜制备方法 | 第45-48页 |
| ·真空镀膜技术 | 第45-46页 |
| ·溶液成膜 | 第46-47页 |
| ·旋涂技术 | 第46页 |
| ·LB膜技术 | 第46页 |
| ·分子自组装膜技术 | 第46-47页 |
| ·印刷成膜技术和印章成膜技术 | 第47页 |
| ·单晶技术 | 第47-48页 |
| ·有机薄膜晶体管载流子的注入与传输理论 | 第48-49页 |
| ·在有机薄膜场效应晶体管方面本论文的主要工作 | 第49-50页 |
| 第三章 酞菁类化合物的单晶生长 | 第50-75页 |
| ·CuPc的晶体生长 | 第51-64页 |
| ·CuPc的合成 | 第51页 |
| ·助熔剂法生长酞菁铜单晶 | 第51-62页 |
| ·提升蒸发法 | 第52-61页 |
| ·生长设备 | 第52-53页 |
| ·实验过程 | 第53-54页 |
| ·实验结果 | 第54-59页 |
| ·分析与讨论 | 第59-61页 |
| ·提升凝固法 | 第61-62页 |
| ·升华-凝结法 | 第62-64页 |
| ·aza-CuPc的晶体生长 | 第64-74页 |
| ·aza-CuPc的合成 | 第65-66页 |
| ·单晶生长方法 | 第66-67页 |
| ·aza-CuPc的晶体结构测定 | 第67-71页 |
| ·紫外-可见吸收谱 | 第71-72页 |
| ·晶体结构分析 | 第72-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| 第四章 有机薄膜晶体管的制备与性能研究 | 第75-97页 |
| ·新型绝缘层的合成与表征 | 第76-78页 |
| ·PMMA-GMA薄膜制备工艺 | 第78-79页 |
| ·酞菁铜薄膜晶体管 | 第79-88页 |
| ·制备工艺 | 第79-80页 |
| ·不同酞菁铜薄膜厚度的器件性能对比 | 第80-83页 |
| ·退火对酞菁铜薄膜晶体管性能的影响 | 第83-88页 |
| ·实验 | 第83-84页 |
| ·结果分析 | 第84-88页 |
| ·PMMA-GMA绝缘层上β-型酞菁铜单晶场效应晶体管器件 | 第88-91页 |
| ·制备过程 | 第88-89页 |
| ·测试结果与讨论 | 第89-91页 |
| ·PMMA-GMA绝缘层上并五苯薄膜晶体管器件 | 第91-92页 |
| ·目前OFET领域中存在的一些问题 | 第92-96页 |
| ·性能参数计算方法不准确 | 第92-93页 |
| ·器件性能不稳定 | 第93-96页 |
| ·小结 | 第96-97页 |
| 第五章 椭偏法在薄膜研究中的应用 | 第97-109页 |
| ·基本原理 | 第97-100页 |
| ·实验仪器 | 第100-101页 |
| ·PMMA-GMA薄膜的光学常数测量 | 第101-103页 |
| ·CuPc薄膜的光学常数测量 | 第103-105页 |
| ·椭偏法估算CuPc薄膜的带隙 | 第105-108页 |
| ·小结 | 第108-109页 |
| 第六章 总结与展望 | 第109-112页 |
| 参考文献 | 第112-129页 |
| 致谢 | 第129-131页 |
| 作者攻读博士期间发表的论文情况 | 第131-133页 |
| 学位论文摘要(中文) | 第133-137页 |
| 学位论文摘要(英文) | 第137-141页 |