| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-14页 |
| ·课题背景与意义 | 第7-9页 |
| ·测量与质量管理 | 第7-8页 |
| ·对测量的理解 | 第8页 |
| ·波动理论 | 第8-9页 |
| ·测量系统的研究与应用现状 | 第9-12页 |
| ·测量系统分析(MSA)理论 | 第11页 |
| ·测量质量工程学理论 | 第11-12页 |
| ·论文的研究范围及结构 | 第12-14页 |
| 2 测量系统分析(MSA)的研究 | 第14-23页 |
| ·测量系统的统计稳定性 | 第14-15页 |
| ·MSA中对影响测量系统的波动分类 | 第15-16页 |
| ·各类波动的定义 | 第15-16页 |
| ·各类波动的计算 | 第16页 |
| ·测量系统的方差分析模型 | 第16-19页 |
| ·测量系统的接受准则 | 第19-22页 |
| ·测量系统的线性 | 第19-20页 |
| ·测量系统的分辨率 | 第20-22页 |
| ·测量系统能力 | 第22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 3 测量系统的监控技术 | 第23-34页 |
| ·统计过程控制理论 | 第23-26页 |
| ·控制图的基本原理 | 第23-24页 |
| ·控制图的构造 | 第24-26页 |
| ·控制图的使用 | 第26页 |
| ·对测量系统进行监控的必要性与可行性 | 第26-28页 |
| ·测量系统监控技术的文献综述 | 第28-30页 |
| ·基于同分布原则的测量系统监控技术 | 第28-29页 |
| ·测量系统的单值移动极差控制图 | 第29-30页 |
| ·基于方差分量控制的测量系统控制图 | 第30-33页 |
| ·方差分量控制图构造阶段 | 第31-32页 |
| ·方差分量控制图实施阶段 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 4 测量系统的设计与使用策略研究 | 第34-48页 |
| ·测量质量工程学研究 | 第34-41页 |
| ·测量质量工程学对影响测量系统波动的分类 | 第34-35页 |
| ·测量质量工程学中测量系统的接受准则 | 第35-36页 |
| ·测量系统的误差分析 | 第36-40页 |
| ·测量质量工程学其他应用方面 | 第40-41页 |
| ·测量质量工程学与MSA理论的比较 | 第41-44页 |
| ·思想层面上的比较 | 第41-42页 |
| ·应用层面上的比较 | 第42-44页 |
| ·测量系统的设计与使用策略 | 第44-47页 |
| ·测量系统的设计与使用策略 | 第44-46页 |
| ·测量过程在生产过程中的重新定位 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 测量系统波动控制技术在产品制造过程中的应用研究 | 第48-61页 |
| ·测量系统波动控制技术在产品制造过程中的应用 | 第48-49页 |
| ·晶圆膜淀积过程的波动源分离及其控制图构造研究 | 第49-59页 |
| ·晶圆膜淀积制造过程的描述 | 第50-51页 |
| ·晶圆膜淀积制造过程的方差分量控制图构造步骤 | 第51-52页 |
| ·方差分量控制图的构造 | 第52-57页 |
| ·实证研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |