| 前 言 | 第1-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-27页 |
| ·超磁致伸缩薄膜材料 | 第12-18页 |
| ·超磁致伸缩薄膜材料的制备 | 第13-16页 |
| ·超磁致伸缩薄膜材料的性能 | 第16-18页 |
| ·薄膜应力对 RGMF 性能的影响 | 第18-24页 |
| ·薄膜应力及其影响因素 | 第18-20页 |
| ·薄膜应力测试技术的发展状况 | 第20-23页 |
| ·薄膜应力对RGMF磁伸性能的影响 | 第23-24页 |
| ·超磁致伸缩薄膜的退火热处理 | 第24-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第二章 实验方法 | 第27-35页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-30页 |
| ·基片的选择与处理 | 第27-28页 |
| ·溅射镀膜 | 第28-30页 |
| ·TEM 实验试样的制备 | 第30-31页 |
| ·真空退火处理 | 第31-32页 |
| ·基片的热处理 | 第32页 |
| ·薄膜的真空退火处理 | 第32页 |
| ·薄膜的表征 | 第32-34页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第32页 |
| ·薄膜的膜厚及沉积速率 | 第32-33页 |
| ·薄膜的成分 | 第33页 |
| ·薄膜的结构 | 第33页 |
| ·薄膜的磁致伸缩性能 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 薄膜应力的测量 | 第35-44页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·方法原理与实验设计 | 第35-38页 |
| ·基片曲率法原理 | 第35-36页 |
| ·基片曲率显微观测装置及原理 | 第36-38页 |
| ·样品制备 | 第38页 |
| ·误差分析 | 第38-42页 |
| ·随机误差 | 第38-39页 |
| ·系统误差 | 第39-41页 |
| ·应力计算误差 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 Sm-Fe薄膜的应力及其对磁伸的影响 | 第44-62页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验方法 | 第44-45页 |
| ·实验结果与分析 | 第45-60页 |
| ·IBS法溅射沉积Sm-Fe薄膜的实验结果与分析 | 第45-54页 |
| ·MS法溅射沉积 Sm-Fe 薄膜的实验结果与分析 | 第54-59页 |
| ·两种工艺下薄膜应力与磁伸性能比较 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 TbDy-Fe薄膜的应力及其对磁伸的影响 | 第62-73页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·实验方法 | 第62-63页 |
| ·实验结果与分析 | 第63-71页 |
| ·形貌分析 | 第63-64页 |
| ·结构分析 | 第64页 |
| ·成分分析 | 第64-65页 |
| ·厚度及沉积速率 | 第65页 |
| ·TbDy-Fe薄膜的应力 | 第65-69页 |
| ·TbDy-Fe薄膜的磁伸性能 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第六章 TbDy-Fe薄膜的真空退火热处理 | 第73-83页 |
| ·引言 | 第73页 |
| ·实验方法 | 第73-74页 |
| ·实验结果与讨论 | 第74-81页 |
| ·TEM试样退火处理的实验结果与分析 | 第74-77页 |
| ·TbDy-Fe薄膜的实验结果与分析 | 第77-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 结 论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-90页 |
| 致 谢 | 第90-91页 |
| 个人简历 | 第91页 |