第一章 绪论 | 第1-15页 |
1.1 引言 | 第7-8页 |
1.2 微波介质陶瓷的应用和性能要求 | 第8-11页 |
1.2.1 微波介质陶瓷的应用 | 第8-9页 |
1.2.2 微波介质陶瓷的性能要求 | 第9-11页 |
1.3 微波介质陶瓷的发展与研究现状 | 第11-13页 |
1.3.1 发展概况 | 第11页 |
1.3.2 微波介质陶瓷目前存在的问题和解决方案 | 第11-12页 |
1.3.3 新型微波陶瓷的研究开发 | 第12-13页 |
1.4 本论文的主要研究内容 | 第13-15页 |
第二章 实验可行性分析 | 第15-19页 |
2.1 容限因子分析 | 第15-17页 |
2.1.1 钨青铜结构的容限因子分析 | 第15页 |
2.1.2 类钙钛矿结构容限因子分析 | 第15-16页 |
2.1.3 各化合物的容限因子 | 第16-17页 |
2.2 电负差讨论 | 第17-19页 |
第三章 材料的制备 | 第19-26页 |
3.1 实验原料及设备 | 第19-20页 |
3.2 材料的制备方法 | 第20-21页 |
3.3 材料的制备程序 | 第21-26页 |
3.3.1 原料的配比和称量 | 第21-22页 |
3.3.2 研磨混合 | 第22页 |
3.3.3 高温合成 | 第22-23页 |
3.3.4 粉体造粒 | 第23-24页 |
3.3.5 干压成型 | 第24页 |
3.3.6 预烧排胶 | 第24-25页 |
3.3.7 烧结 | 第25页 |
3.3.8 表面处理 | 第25-26页 |
第四章 样品的烧结性能与密度分析 | 第26-30页 |
4.1 阿基米德排水法简介 | 第26页 |
4.2 烧结温度对密度的影响 | 第26-30页 |
第五章 结构分析 | 第30-48页 |
5.1 X射线显微分析 | 第30-42页 |
5.1.1 X射线显微分析原理 | 第30-33页 |
5.1.2 各化合物的X射线分析 | 第33-42页 |
5.1.2.1 Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)的X射线分析 | 第33-36页 |
5.1.2.2 (Ba,Sr)_8Ti_3Nb_4O_(24)的X射线分析 | 第36-42页 |
5.2 光学显微镜分析 | 第42页 |
5.3 扫描电镜显微分析 | 第42-45页 |
5.3.1 Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)的扫描电镜照片 | 第43页 |
5.3.2 (Ba,Sr)_8Ti_3Nb_4O_(24)的扫描电镜照片 | 第43-45页 |
5.4 致密度 | 第45-46页 |
5.5 化学分析 | 第46-48页 |
第六章 介电测试与分析 | 第48-60页 |
6.1 电介质极化原理简述 | 第48-53页 |
6.1.1 极化与介电常数 | 第49-52页 |
6.1.1.1 弹性位移极化 | 第49-50页 |
6.1.1.2 松弛极化 | 第50-52页 |
6.1.2 陶瓷材料的介电损耗 | 第52-53页 |
6.1.3 温度系数 | 第53页 |
6.2 Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)陶瓷的介电性能研究 | 第53-57页 |
6.2.1 Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)陶瓷的介电温度谱 | 第54-55页 |
6.2.2 Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)陶瓷的频率谱 | 第55-56页 |
6.2.3 Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)的温度系数 | 第56页 |
6.2.4 不同Ln3+离子对Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)介电性能的影响 | 第56页 |
6.2.5 Ba_5LnSn_3Nb_7O_(30)与Ba_5LnTi3_Nb_7O_(30)的比较 | 第56-57页 |
6.3 (Ba,Sr)_8Ti_3Nb_4O_(24)的微波介电性能研究 | 第57-60页 |
6.3.1 介电常数随Sr的取代量的变化 | 第57-58页 |
6.3.2 品质因子随X的变化 | 第58-59页 |
6.3.3 介电常数的温度系数随X的变化 | 第59-60页 |
第七章 结论与展望 | 第60-62页 |
7.1 结论 | 第60-61页 |
7.2 展望 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-67页 |
攻读硕士研究生期间论文发表情况 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |