DKDP晶体的全方位生长及其光学均匀性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-13页 |
| ·DKDP 晶体的性质 | 第9-10页 |
| ·DKDP 晶体的生长研究动态 | 第10-12页 |
| ·DKDP 晶体的光学质量及其后期处理 | 第12-13页 |
| ·研究问题的提出 | 第13-15页 |
| ·单斜相的干扰及溶液的稳定性 | 第13-14页 |
| ·激光核聚变和 DKDP 晶体的光学均匀性 | 第14-15页 |
| ·研究目的和内容 | 第15-17页 |
| ·研究目的 | 第15页 |
| ·研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 晶体生长溶液的制备 | 第17-21页 |
| ·准备工作 | 第17页 |
| ·制备过程 | 第17-19页 |
| ·溶液的配制 | 第19页 |
| ·杂质金属离子的检测 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 DKDP 晶体的全方位生长 | 第21-33页 |
| ·晶体全方位生长的动力学 | 第21-24页 |
| ·晶体生长过程 | 第24-29页 |
| ·生长设备 | 第24-25页 |
| ·饱和点的测定 | 第25页 |
| ·溶液的处理 | 第25-26页 |
| ·籽晶的制备 | 第26页 |
| ·降温曲线的拟合 | 第26-27页 |
| ·晶体生长 | 第27-29页 |
| ·晶体生长中存在的问题 | 第29-32页 |
| ·原料纯度对晶体质量的影响 | 第29-31页 |
| ·生长速度对晶体质量的影响 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 同步辐射X射线形貌术与晶体的完整性分析 | 第33-43页 |
| ·同步辐射 | 第33-34页 |
| ·同步辐射的原理 | 第33-34页 |
| ·同步辐射的特点 | 第34页 |
| ·同步辐射 X 射线形貌术 | 第34-36页 |
| ·形貌术的特点 | 第34-35页 |
| ·同步辐射 X 射线形貌术的实验技术 | 第35-36页 |
| ·晶体完整性的观测 | 第36-42页 |
| ·样品的加工 | 第36页 |
| ·实验步骤 | 第36-37页 |
| ·实验结果与讨论 | 第37-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 DKDP 晶体的光学均匀性 | 第43-50页 |
| ·DKDP 晶体光学均匀性的影响因素 | 第43-44页 |
| ·DKDP 晶体的退火效应 | 第44-49页 |
| ·退火实验 | 第44-45页 |
| ·光学均匀性的检测与讨论 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
