| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 序 | 第9-13页 |
| 1 引言 | 第13-21页 |
| ·有机薄膜晶体管概述 | 第13-14页 |
| ·喷墨打印技术 | 第14-17页 |
| ·喷墨打印在薄膜晶体管中的应用 | 第17-20页 |
| ·本文研究内容 | 第20-21页 |
| 2 有机薄膜晶体管原理及喷墨打印技术背景 | 第21-33页 |
| ·OTFT基本工作原理 | 第21-23页 |
| ·OTFT基本原理 | 第21-22页 |
| ·OTFT基本结构 | 第22-23页 |
| ·OTFT的电学特性 | 第23-26页 |
| ·载流子迁移率(field effect mobility) | 第23-24页 |
| ·阈值电压(threshold voltage) | 第24-25页 |
| ·亚阈值摆幅(Subthreshold Slope) | 第25页 |
| ·开关比(I_(ON)/I_(OFF)) | 第25页 |
| ·漏电流(Leakage Currents) | 第25页 |
| ·接触电阻(Contact Resistance) | 第25-26页 |
| ·OTFT有源层与绝缘层材料 | 第26-31页 |
| ·有机半导体 | 第26-28页 |
| ·绝缘层材料 | 第28-31页 |
| ·无机绝缘材料 | 第29-30页 |
| ·聚合物绝缘材料 | 第30-31页 |
| ·喷墨打印技术背景 | 第31-32页 |
| ·近年来不同方式沉积PVP绝缘层的研究 | 第32-33页 |
| 3 喷墨打印制备PVP绝缘膜研究 | 第33-47页 |
| ·实验材料 | 第33页 |
| ·实验仪器 | 第33-37页 |
| ·喷墨打印机(Fujifilm DMP-3000) | 第33-34页 |
| ·真空蒸镀系统 | 第34页 |
| ·LCR测试仪(Hioki 3532-50) | 第34-35页 |
| ·半导体性能测试仪(LCD M8700) | 第35页 |
| ·α-step膜厚测试仪&扫描电子显微镜SEM(Hitachi S4000) | 第35-36页 |
| ·其他一些仪器 | 第36-37页 |
| ·紫外臭氧清洗机(Novascan PSD RYO SERIES) | 第36页 |
| ·粘度计(Cambridge Viscosity VICOLAB4000) | 第36-37页 |
| ·实验内容 | 第37-47页 |
| ·墨水调制 | 第37-38页 |
| ·打印机参数调整 | 第38-40页 |
| ·基板准备 | 第40页 |
| ·点阵打印 | 第40-42页 |
| ·PVP在阵列上的打印 | 第42-46页 |
| ·阵列上不同点间距的打印 | 第42-44页 |
| ·阵列上不同层的打印 | 第44-46页 |
| ·PVP在ITO上的打印 | 第46-47页 |
| 4 PVP喷墨打印实验结果与分析 | 第47-73页 |
| ·成膜情况——咖啡环现象的产生及消除 | 第47-49页 |
| ·膜厚测试 | 第49-52页 |
| ·多层PVP绝缘层打印的膜厚测试 | 第49页 |
| ·不同点间距条件下PVP绝缘层的膜厚测试 | 第49-52页 |
| ·电容特性 | 第52-61页 |
| ·背板上的电容测试 | 第52-53页 |
| ·ITO玻璃基板上的电容测试 | 第53-60页 |
| ·多层PVP薄膜的电容特性 | 第54-56页 |
| ·不同点间距条件下PVP薄膜的电容特性 | 第56-60页 |
| ·介电常数分析 | 第60-61页 |
| ·漏电特性 | 第61-73页 |
| ·层数对漏电流的影响 | 第61-67页 |
| ·点间距对漏电流的影响 | 第67-71页 |
| ·浓度对漏电流的影响 | 第71-73页 |
| 5 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 作者简历 | 第81-85页 |
| 学位论文数据集 | 第85页 |
