| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-32页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·聚砜膜 | 第15-18页 |
| ·聚砜材料介绍 | 第15页 |
| ·聚砜膜的应用 | 第15-18页 |
| ·聚砜亲水改性技术 | 第18-21页 |
| ·表面涂覆 | 第18页 |
| ·低温等离子引发 | 第18-19页 |
| ·光引发改性 | 第19页 |
| ·化学表面修饰改性 | 第19-21页 |
| ·高分子分离膜及其制备方法 | 第21-24页 |
| ·高分子分离膜概述 | 第21页 |
| ·高分子分离膜的制备方法 | 第21-24页 |
| ·静电纺丝技术 | 第24-28页 |
| ·静电纺丝技术的机理及装置 | 第24-25页 |
| ·影响静电纺丝技术的因素 | 第25-27页 |
| ·静电纺丝技术的应用 | 第27-28页 |
| ·本文的研究内容和意义 | 第28-32页 |
| 第二章 实验部分 | 第32-38页 |
| ·实验原料及试剂 | 第32-33页 |
| ·实验仪器 | 第33页 |
| ·CMPSF的合成 | 第33页 |
| ·本体ATRP方法制备PSF-g-PHEMA | 第33-34页 |
| ·相转化法制备PSF-g-PHEMA膜 | 第34页 |
| ·静电纺丝制备PSF-g-PHEMA纳米纤维膜 | 第34页 |
| ·表征方法 | 第34-38页 |
| ·结构表征 | 第34页 |
| ·形貌表征 | 第34-35页 |
| ·亲水性能表征 | 第35页 |
| ·抗污性能表征 | 第35-38页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第38-70页 |
| ·CMPSF的合成及氯甲基化率的控制 | 第38-49页 |
| ·CMPSF的合成 | 第38-40页 |
| ·氯甲基化率的控制 | 第40-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| ·ATRP法制备PSF-g-PHEMA | 第49-54页 |
| ·ATRP反应机理 | 第49-50页 |
| ·PSF-g-PHEMA的成功合成 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| ·相转化法制膜及其性能表征 | 第54-62页 |
| ·膜的形貌表征 | 第54-56页 |
| ·膜的亲水性能表征 | 第56-58页 |
| ·膜的抗污性能测试 | 第58页 |
| ·“接枝密度”和“接枝链长”对膜的亲水性能和抗污性能的影响 | 第58-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| ·静电纺丝制膜及其性能表征 | 第62-70页 |
| ·静电纺丝条件的确定 | 第62-63页 |
| ·PSF-g-PHEMA纳米纤维膜的形貌表征 | 第63-65页 |
| ·PSF-g-PHEMA纳米纤维膜的亲水性能测试 | 第65-67页 |
| ·PSF-g-PHEMA纳米纤维膜的抗污性能表征 | 第67-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第四章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 研究成果和发表的学术论文 | 第80-82页 |
| 作者和导师简介 | 第82-83页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第83-84页 |