| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·流动注射分析 | 第10-12页 |
| ·流动注射分析创立 | 第10页 |
| ·流动注射分析基本原理 | 第10-11页 |
| ·流动注射分析特点 | 第11-12页 |
| ·流动注射分析的应用 | 第12页 |
| ·顺序注射分析 | 第12-15页 |
| ·顺序注射的创立 | 第12-13页 |
| ·顺序注射分析的基本原理 | 第13-14页 |
| ·顺序注射分析特点 | 第14-15页 |
| ·顺序注射分析的应用 | 第15页 |
| ·顺序注射-阀上实验室分析 | 第15-18页 |
| ·顺序注射-阀上实验室分析创立 | 第15-16页 |
| ·顺序注射-阀上实验室分析的基本原理 | 第16-17页 |
| ·顺序注射-阀上实验室分析的特点 | 第17页 |
| ·顺序注射-阀上实验室分析的应用 | 第17-18页 |
| ·测定镉的意义 | 第18页 |
| ·测定镉的方法 | 第18-19页 |
| ·光谱法 | 第18页 |
| ·电化学方法 | 第18页 |
| ·其他方法 | 第18-19页 |
| ·本论文的主要研究内容及创新点 | 第19-20页 |
| ·参考文献 | 第20-26页 |
| 第二章 汞膜电极顺序注射阀上实验室溶出伏安法测定痕量镉 | 第26-36页 |
| ·实验部分 | 第26-28页 |
| ·仪器与试剂 | 第26-27页 |
| ·碳糊电极的制作 | 第27页 |
| ·实验流程 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-34页 |
| ·电化学参数的优化 | 第28-30页 |
| ·顺序注射-阀上实验室参数的优化 | 第30-32页 |
| ·汞膜的更新 | 第32-33页 |
| ·线性范围和检出限 | 第33页 |
| ·干扰实验 | 第33页 |
| ·实际样品的检测 | 第33-34页 |
| ·结语 | 第34页 |
| ·参考文献 | 第34-36页 |
| 第三章 Nafion铋膜电极顺序注射阀上实验室用于镉的研究 | 第36-49页 |
| ·实验部分 | 第36-39页 |
| ·仪器与试剂 | 第36-37页 |
| ·Nafion膜电极电极的制作 | 第37-38页 |
| ·实验流程 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-46页 |
| ·测定条件的优化 | 第39-45页 |
| ·Nafion用量的影响 | 第39-40页 |
| ·Bi~(3+)浓度的影响 | 第40-42页 |
| ·富集电位的影响 | 第42-43页 |
| ·富集时间的影响 | 第43页 |
| ·表面活性剂对电极的影响 | 第43-45页 |
| ·线性范围、检出限 | 第45-46页 |
| ·实际样品的检测 | 第46页 |
| ·结论 | 第46页 |
| ·参考文献 | 第46-49页 |
| 第四章 桑色素修饰电极顺序注射阀上实验室检测镉的研究 | 第49-62页 |
| ·实验部分 | 第49-51页 |
| ·仪器与试剂 | 第49-50页 |
| ·修饰电极的制备 | 第50页 |
| ·实验流程 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-60页 |
| ·修饰电极聚合机理的研究 | 第51-53页 |
| ·Cd在修饰电极上的电化学行为 | 第53-55页 |
| ·pH的影响 | 第55-56页 |
| ·沉积电位与沉积时间的选择 | 第56-58页 |
| ·顺序注射-阀上实验室参数的优化 | 第58页 |
| ·干扰实验 | 第58-59页 |
| ·线性范围、检出限 | 第59-60页 |
| ·实际样品的检测 | 第60页 |
| ·结论 | 第60页 |
| ·参考文献 | 第60-62页 |
| 硕士研究生期间发表及待发表的论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
