| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·磁记录基本原理 | 第9-11页 |
| ·高密度磁记录介质的要求 | 第11-13页 |
| ·SmCo系列高密度磁记录介质国内外研究概况 | 第13-17页 |
| ·本论文的思路和工作安排 | 第17-18页 |
| 第二章 薄膜样品的制备及测试 | 第18-26页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第18-19页 |
| ·溅射现象 | 第18页 |
| ·磁控溅射原理 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射系统 | 第19-20页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第20-21页 |
| ·基片的清洗 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射制备样品 | 第21页 |
| ·薄膜的成分,结构及其磁性能的测试 | 第21-26页 |
| ·薄膜厚度的测量-表面形貌仪测定(XPS) | 第21-22页 |
| ·薄膜成分的分析-X射线能量色散谱(EDS) | 第22页 |
| ·薄膜结构的测量-X射线衍射分析(XRD) | 第22-23页 |
| ·薄膜磁学性能的测试-振动样品磁强计(VSM) | 第23-24页 |
| ·薄膜表面形貌的分析-扫描隧道显微镜分析(STM) | 第24-26页 |
| 第三章 溅射工艺对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第26-31页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·实验 | 第26-27页 |
| ·实验结果及讨论 | 第27-30页 |
| ·磁性层溅射功率对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第27-28页 |
| ·磁性层厚度对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第28-29页 |
| ·磁性层溅射气压对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 底层对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第31-41页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验 | 第31-32页 |
| ·实验结果及讨论 | 第32-40页 |
| ·不同底层对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第32页 |
| ·Cr底层对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第32-34页 |
| ·Ti底层对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第34-36页 |
| ·Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第36-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 Cr中间层对SmCo/TbFeCo多层膜磁交换耦合性能的影响 | 第41-47页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验 | 第41-42页 |
| ·实验结果及讨论 | 第42-45页 |
| ·SmCo、TbFeCo单层膜的磁性能 | 第42-43页 |
| ·SmCo/TbFeCo多层耦合膜的磁性能 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第六章 总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 硕士期间发表的主要论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |