| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·磁性记录材料 | 第12页 |
| ·硬盘磁记录技术 | 第12-20页 |
| ·硬盘的结构原理 | 第12-14页 |
| ·硬盘的磁记录方式 | 第14-16页 |
| ·高密度记录技术的发展 | 第16-20页 |
| ·垂直磁记录介质 | 第20-27页 |
| ·磁记录介质种类 | 第20-21页 |
| ·Co-Cr基薄膜 | 第21-22页 |
| ·有序纳米线合金阵列 | 第22-23页 |
| ·L1_0相颗粒Co-Pt合金薄膜 | 第23-25页 |
| ·垂直磁记录介质的噪声 | 第25-27页 |
| ·本论文选题意义和研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第28-34页 |
| ·实验原料与设备 | 第28-29页 |
| ·实验原料 | 第28页 |
| ·实验设备 | 第28-29页 |
| ·实验方案 | 第29-31页 |
| ·基底材料的预处理 | 第30页 |
| ·合金薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·测试与表征 | 第31-34页 |
| ·测试仪器 | 第31页 |
| ·测试方法 | 第31-34页 |
| 第三章 电解液体系的电化学测试 | 第34-42页 |
| ·电化学测试方法 | 第34-39页 |
| ·实验部分 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-39页 |
| ·本章小结 | 第39-42页 |
| 第四章 在铜基底上Co-Pt合金薄膜的制备与表征 | 第42-54页 |
| ·电沉积制备Co-Pt合金薄膜 | 第42-47页 |
| ·实验部分 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-47页 |
| ·Co-Pt合金薄膜的退火热处理 | 第47-52页 |
| ·实验部分 | 第47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 在单晶硅基底上Co-Pt合金薄膜的制备与表征 | 第54-68页 |
| ·单晶硅上电沉积制备Co-Pt合金薄膜 | 第54-62页 |
| ·实验部分 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-62页 |
| ·单晶硅上制备得到Co-Pt合金薄膜的退火热处理 | 第62-67页 |
| ·实验部分 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 总结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第78-80页 |
| 作者及导师简介 | 第80-81页 |
| 北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第81-82页 |