摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第9-20页 |
·稀磁半导体的研究概述 | 第9-11页 |
·稀磁半导体的概念及分类 | 第9-10页 |
·稀磁半导体研究概况 | 第10-11页 |
·稀磁半导体的基本特性 | 第11-12页 |
·光吸收特性 | 第11页 |
·磁性 | 第11-12页 |
·巨法拉第旋转效应 | 第12页 |
·巨负磁阻效应 | 第12页 |
·ZNO基稀磁半导体的研究概况 | 第12-15页 |
·ZnO半导体的结构及基本特性 | 第13-14页 |
·ZnO基稀磁半导体的研究进展 | 第14-15页 |
·ZNO基压敏电阻材料的研究概述 | 第15-17页 |
·高温高压合成技术概述 | 第17-18页 |
·论文的选题依据和主要研究内容 | 第18-20页 |
·论文的选题依据 | 第18-19页 |
·主要研究内容 | 第19-20页 |
第2章 样品的制备工艺及高温高压实验 | 第20-28页 |
·粉体材料制备工艺简介 | 第20-21页 |
·溶胶凝胶法 | 第20-21页 |
·固相反应法 | 第21页 |
·MN掺杂ZNO基稀磁半导体的样品制备 | 第21-22页 |
·高温高压实验 | 第22-27页 |
·六面顶压机原理简介 | 第22-24页 |
·压力标定 | 第24-25页 |
·温度标定 | 第25页 |
·高温高压实验的具体装配 | 第25-26页 |
·Mn掺杂ZnO基稀磁半导体的高压处理 | 第26-27页 |
·本章小结 | 第27-28页 |
第3章 高压处理MN掺杂ZNO基稀磁半导体的结构表征 | 第28-38页 |
·MN掺杂ZNO体系概述 | 第28-29页 |
·扫描电子显微分析 | 第29-30页 |
·仪器结构与工作原理 | 第29-30页 |
·样品制备 | 第30页 |
·高压处理后ZN_(1-x)MN_xO体系的微观形貌特征 | 第30-33页 |
·X射线衍射分析 | 第33-35页 |
·物质的物相定性分析 | 第33-34页 |
·微晶尺寸和微观应力的测试 | 第34-35页 |
·样品制备 | 第35页 |
·高压处理后ZN_(0.98)MN_(0.02)O体系的结构表征 | 第35-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
第4章 高压处理ZN_(1-x)MN_xO体系的磁性研究 | 第38-47页 |
·稀磁半导体可能的磁性起源 | 第38-42页 |
·双交换作用 | 第38-40页 |
·RKKY相互作用 | 第40-41页 |
·超交换作用 | 第41页 |
·束缚磁极化子导致的互作用 | 第41-42页 |
·载流子调节的双交换理论 | 第42页 |
·掺杂浓度及高压处理对ZN_(1-x)MN_xO样品的磁化行为的影响 | 第42-45页 |
·掺杂浓度对Zn_(1-x)Mn_xO样品的磁化行为的影响 | 第42-44页 |
·高压处理对Zn_(1-x)Mn_xO样品的磁化行为的影响 | 第44-45页 |
·高压处理对ZN_(1-x)MN_xO体系磁性的可能起因 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第5章 高温高压下CO掺杂ZNO压敏特性的研究 | 第47-55页 |
·ZNO基压敏电阻概述 | 第47-49页 |
·ZnO基压敏电阻的掺杂 | 第47页 |
·ZnO基压敏电阻的主要电性能指标 | 第47-49页 |
·样品制备和高温高压试验 | 第49页 |
·高温高压下ZN_(1-x)CO_xO的压敏特性 | 第49-51页 |
·高温高压下ZN_(0.95)CO_(0.05)O的压敏特性 | 第51-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第6章 结论 | 第55-56页 |
·本文的主要结论 | 第55页 |
·对今后工作地展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
附录 攻读硕士学位期间参与的科研课题及公开发表的学术论文 | 第62页 |