| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·薄膜技术的发展及应用 | 第8页 |
| ·薄膜参数的测试方法 | 第8-10页 |
| ·本文研究的主要内容及意义 | 第10-12页 |
| 第二章 薄膜样品制备及测试 | 第12-29页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第12-16页 |
| ·电子束蒸发设备简介 | 第12-15页 |
| ·ZZS630镀膜机的实验操作步骤 | 第15-16页 |
| ·样品透射谱的测量 | 第16-19页 |
| ·测试系统简介 | 第16-18页 |
| ·实验测试注意事项及步骤 | 第18-19页 |
| ·椭偏仪与椭偏测量术 | 第19-29页 |
| ·椭偏仪的结构及其主要应用 | 第19-21页 |
| ·椭偏仪的结构 | 第19-20页 |
| ·椭偏仪的主要应用 | 第20-21页 |
| ·反射式椭偏仪测量的基本理论 | 第21-24页 |
| ·反射系数比 | 第21-23页 |
| ·椭偏参数ψ和Δ | 第23-24页 |
| ·UVISEL椭圆偏振光谱仪 | 第24-29页 |
| ·仪器介绍 | 第24-25页 |
| ·实验测试步骤及注意事项 | 第25页 |
| ·实验测量数据处理 | 第25-26页 |
| ·实验拟合步骤 | 第26-27页 |
| ·拟合数据处理 | 第27-29页 |
| 第三章 椭偏参数拟合方法及建模的研究 | 第29-36页 |
| ·提高椭偏参数拟合精度方法的研究 | 第29-33页 |
| ·实验测试结果 | 第29页 |
| ·薄膜参数的递进式拟合方法 | 第29-30页 |
| ·实验结果及讨论 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| ·NAF色散模型在TiO_2光学薄膜椭偏参数建模中应用 | 第33-36页 |
| ·理论基础 | 第33-34页 |
| ·实验结果分析 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第四章 制备条件对TiO_2光学薄膜光学特性的影响 | 第36-41页 |
| ·实验样品镀制 | 第36-37页 |
| ·基底温度对TiO_2光学薄膜光学特性的影响 | 第37-38页 |
| ·工作气压对TiO_2薄膜光学特性的影响 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 在校期间发表的学术论文 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |