洗发香波中的硅油在头发上的沉积与性质
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-19页 |
| ·前言 | 第7页 |
| ·调理型二合一香波 | 第7-14页 |
| ·二合一香波简介 | 第7页 |
| ·二合一香波的功能评价 | 第7-8页 |
| ·二合一香波的产品要求 | 第8页 |
| ·调理剂简介 | 第8-11页 |
| ·硅氧烷沉积 | 第11-12页 |
| ·香料 | 第12-14页 |
| ·二合一香波原料的选择 | 第14-17页 |
| ·表面活性剂 | 第14-15页 |
| ·调理剂 | 第15-16页 |
| ·增稠剂 | 第16页 |
| ·头皮护理 | 第16页 |
| ·香料 | 第16-17页 |
| ·其他原料 | 第17页 |
| ·头发的结构与性质 | 第17-18页 |
| ·头发的组织结构 | 第17页 |
| ·头发的化学组成 | 第17页 |
| ·头发的性质 | 第17-18页 |
| ·头发的梳理性 | 第18页 |
| ·立题依据 | 第18-19页 |
| 第二章 香波中的硅油在头发上沉积量的测定 | 第19-25页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·实验部分 | 第19-23页 |
| ·实验试剂 | 第19-20页 |
| ·实验仪器与设备 | 第20-21页 |
| ·实验方法 | 第21-23页 |
| ·表征方法 | 第23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-24页 |
| ·电镜扫描实验 | 第23页 |
| ·红外光谱实验 | 第23-24页 |
| ·硅油沉积量测定 | 第24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 第三章 表面活性剂和阳离子高分子对硅油沉积的影响 | 第25-35页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·实验部分 | 第25-28页 |
| ·实验试剂 | 第25-26页 |
| ·实验设备及仪器 | 第26-27页 |
| ·实验方法 | 第27-28页 |
| ·红外光谱表征 | 第28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-34页 |
| ·表面活性剂的类型对硅油沉积量的影响 | 第28-29页 |
| ·复配表面活性剂对硅油沉积量的影响 | 第29-30页 |
| ·不同表面活性剂的配比对硅油沉积量的影响 | 第30-31页 |
| ·表面活性剂总添加量不同时对硅油沉积量的影响 | 第31-32页 |
| ·阳离子高聚物对硅油沉积量的影响 | 第32-33页 |
| ·硅油沉积量最佳的配方 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第四章 沉积硅油的调理作用及对香料的缓释作用 | 第35-49页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·实验部分 | 第35-38页 |
| ·实验试剂 | 第35-36页 |
| ·实验设备及仪器 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-48页 |
| ·香波调理性能的研究 | 第38-39页 |
| ·加香香波稳定性测试 | 第39页 |
| ·香料在头发上停留时间 | 第39-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第五章 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第53页 |
