| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 金属磁性材料 | 第10页 |
| 1.2 铁氧体磁性材料 | 第10-11页 |
| 1.3 金属磁性薄膜 | 第11-12页 |
| 1.4 各向同性磁导率薄膜的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第13-14页 |
| 参考文献 | 第14-16页 |
| 第二章 高频磁性理论基础 | 第16-26页 |
| 2.1 磁化强度动力学方程 | 第16-17页 |
| 2.2 磁化强度的自由进动圆频率 | 第17-18页 |
| 2.3 小角近似下的张量磁导率 | 第18-20页 |
| 2.3.1 无阻尼情况下的张量磁化率 | 第18-19页 |
| 2.3.2 有阻尼情况下的张量磁化率 | 第19-20页 |
| 2.4 样品形状对磁化强度进动的影响 | 第20-22页 |
| 2.4.1 小椭球样品的自然共振频率 | 第20-21页 |
| 2.4.2 薄膜样品的自然共振频率和面内微波磁化率 | 第21-22页 |
| 2.5 磁性材料高频磁性的特征 | 第22-25页 |
| 2.5.1 Snoek极限 | 第22页 |
| 2.5.2 Acher极限 | 第22页 |
| 2.5.3 “双各向异性”模型 | 第22-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 样品制备及表征 | 第26-37页 |
| 3.1 薄膜样品的制备 | 第26-27页 |
| 3.2 样品结构表征 | 第27-29页 |
| 3.2.1 扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 3.2.2 X射线衍射仪 | 第28-29页 |
| 3.3 样品静态和动态磁性表征 | 第29-33页 |
| 3.3.1 振动样品磁强计 | 第29页 |
| 3.3.2 磁力显微镜 | 第29-30页 |
| 3.3.3 磁光克尔测量仪 | 第30-31页 |
| 3.3.4 短路微带线法测高频磁谱 | 第31-33页 |
| 3.4 电输运性质测试平台 | 第33-34页 |
| 3.5 薄膜面内单轴各向异性的测量方法 | 第34-36页 |
| 3.5.1 磁滞回线面积积分法 | 第34-35页 |
| 3.5.2 磁谱拟合法 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第四章 条纹畴结构的磁矩构型 | 第37-54页 |
| 4.1 条纹畴薄膜的制备及静态磁性表征 | 第37-39页 |
| 4.2 条纹畴结构的动态磁性 | 第39-42页 |
| 4.3 条纹畴薄膜的各向异性磁电阻(AMR) | 第42-43页 |
| 4.4 条纹畴磁矩构型的研究 | 第43-50页 |
| 4.4.1 条纹畴磁矩构型的理论分析及实验测量 | 第44-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第五章 多晶Fe4N薄膜的各向同性磁导率及转动各向异性 | 第54-73页 |
| 5.1 Fe-N材料简介 | 第54-55页 |
| 5.2 Fe-N薄膜的制备及磁电性质表征 | 第55-59页 |
| 5.2.1 溅射功率对Fe-N薄膜相结构的影响 | 第55-56页 |
| 5.2.2 N2流量比对Fe-N薄膜相结构的影响 | 第56-57页 |
| 5.2.3 Fe4N薄膜的磁电性质表征 | 第57-59页 |
| 5.3 Fe4N薄膜的各向同性磁导率及转动各向异性 | 第59-65页 |
| 5.4 随机各向异性模型 | 第65-67页 |
| 5.5 Fe4N薄膜转动各向异性的静态磁测量方法 | 第67-68页 |
| 5.6 薄膜厚度对Fe4N薄膜转动各向异性的影响 | 第68-69页 |
| 5.7 本章小结 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 第六章 复合薄膜的各向同性磁导率研究 | 第73-91页 |
| 6.1 复合薄膜的磁导率角度关系理论研究 | 第73-77页 |
| 6.2 CoZr单层薄膜的高频磁性调控 | 第77-81页 |
| 6.2.1 调控薄膜面内各向异性的方法 | 第77-78页 |
| 6.2.2 倾斜溅射下CoZr单层薄膜的结构及磁性研究 | 第78-81页 |
| 6.3 CoZr复合薄膜的静态及高频磁性研究 | 第81-87页 |
| 6.3.1 中间层厚度对复合薄膜层间交换耦合的影响 | 第82-83页 |
| 6.3.2 两个铁磁层的相对厚度对复合薄膜静态磁性的影响 | 第83-84页 |
| 6.3.3 复合薄膜各向同性磁导率的表征及调控 | 第84-87页 |
| 6.4 本章小结 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-91页 |
| 第七章 总结与展望 | 第91-93页 |
| 7.1 本论文的主要结论 | 第91-92页 |
| 7.2 对未来工作的展望 | 第92-93页 |
| 附录 A | 第93-96页 |
| A1 倾斜溅射对Fe_(20)Ni_(80)薄膜各向异性磁电阻的影响 | 第93-95页 |
| A2 小结 | 第95-96页 |
| 附录 B | 第96-99页 |
| B1 室温条件下制备的Fe4N薄膜磁电阻 | 第96-98页 |
| B2 小结 | 第98-99页 |
| 在学期间的研究成果 | 第99-100页 |
| 致谢 | 第100页 |
