| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 透明陶瓷的概述 | 第12-18页 |
| 1.2.1 陶瓷作为激光增益介质的优势 | 第12-13页 |
| 1.2.2 影响透明陶瓷透过率的因素 | 第13-15页 |
| 1.2.3 激光透明陶瓷的发展现状 | 第15-18页 |
| 1.3 Yb:Lu_2O_3材料简介 | 第18-22页 |
| 1.3.1 基质材料Lu_2O_3简介 | 第18-19页 |
| 1.3.2 激活离子(Yb~(3+))简介 | 第19-20页 |
| 1.3.3 Yb:Lu_2O_3材料的优势 | 第20-22页 |
| 1.4 Yb:Lu_2O_3透明陶瓷的研究现状 | 第22-26页 |
| 1.5 RE:Lu_2O_3粉体及陶瓷的制备 | 第26-28页 |
| 1.5.1 RE:Lu_2O_3粉体的制备 | 第26-27页 |
| 1.5.2 RE:Lu_2O_3透明陶瓷的制备 | 第27-28页 |
| 1.6 论文选题依据和研究内容 | 第28-30页 |
| 1.6.1 选题依据 | 第28-29页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 实验原料、设备及表征手段 | 第30-34页 |
| 2.1 实验原料和化学试剂 | 第30页 |
| 2.2 实验设备 | 第30-31页 |
| 2.3 测试表征方法 | 第31-34页 |
| 第三章 共沉淀法合成Yb:Lu_2O_3纳米粉体及透明陶瓷的制备 | 第34-59页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 真空烧结制备Yb:Lu_2O_3透明陶瓷 | 第35-39页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第35-36页 |
| 3.2.2 沉淀法制备粉体的形貌与物相 | 第36-37页 |
| 3.2.3 烧结温度对陶瓷形貌及致密度的影响 | 第37-39页 |
| 3.3 真空预烧结合热等静压烧结制备Yb:Lu_2O_3透明陶瓷 | 第39-46页 |
| 3.3.1 实验过程 | 第39-40页 |
| 3.3.2 预烧温度对HIP前后陶瓷致密度的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.3 预烧温度对HIP前后光学质量的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.4 预烧温度对HIP前后陶瓷形貌的影响 | 第43-46页 |
| 3.4 煅烧温度对粉体和陶瓷性能的影响 | 第46-52页 |
| 3.4.1 实验流程 | 第46-47页 |
| 3.4.2 煅烧温度对粉体成分和形貌的影响 | 第47-50页 |
| 3.4.3 煅烧温度对陶瓷光学质量和显微结构的影响 | 第50-52页 |
| 3.5 R值对Yb:Lu_2O_3纳米粉体及陶瓷性质的影响 | 第52-57页 |
| 3.5.1 实验流程 | 第52页 |
| 3.5.2 R值对Yb:Lu_2O_3前驱体性能的影响。 | 第52-54页 |
| 3.5.3 R值对Yb:Lu_2O_3纳米粉体性能的影响 | 第54-55页 |
| 3.5.4 R值对Yb:Lu_2O_3陶瓷性能的影响 | 第55-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 不同Yb~(3+)离子掺杂浓度Lu_2O_3透明陶瓷的制备及其光谱性能研究 | 第59-67页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 实验过程 | 第59-60页 |
| 4.3 Yb~(3+)掺杂Lu_2O_3粉体及陶瓷性能研究 | 第60-62页 |
| 4.3.1 Yb:Lu_2O_3粉体的物相和形貌分析 | 第60-61页 |
| 4.3.2 Yb:Lu_2O_3透明陶瓷的光学性能 | 第61-62页 |
| 4.4 Yb:Lu_2O_3透明陶瓷的光谱性能 | 第62-66页 |
| 4.4.1 Yb:Lu_2O_3透明陶瓷的吸收光谱 | 第62-63页 |
| 4.4.2 Yb:Lu_2O_3透明陶瓷的吸收截面 | 第63-65页 |
| 4.4.4 Yb:Lu_2O_3透明陶瓷的发射截面 | 第65-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 结论 | 第67-68页 |
| 5.2 展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第79页 |
