| 中文摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 亚波长结构的研究概况 | 第13-14页 |
| 1.2 亚波长衍射光栅 | 第14-16页 |
| 1.2.1 衍射光栅的工作状态分类 | 第14-15页 |
| 1.2.2 亚波长光栅的应用 | 第15-16页 |
| 1.3 基于亚波长光栅的导模共振现象 | 第16-19页 |
| 1.4 导模共振效应的理论研究进展 | 第19-20页 |
| 1.5 导模共振器件的设计及应用进展 | 第20-21页 |
| 1.6 本文的研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 亚波长光栅结构的数值分析方法 | 第23-44页 |
| 2.1 严格耦合波理论 | 第23-35页 |
| 2.1.1 麦克斯韦方程及波动方程 | 第23-26页 |
| 2.1.2 矩形光栅结构的耦合波分析—TE偏振波入射 | 第26-29页 |
| 2.1.3 矩形光栅结构的耦合波分析—TM偏振波入射 | 第29-31页 |
| 2.1.4 入射平面与光栅槽的夹角为任意值时的衍射 | 第31-35页 |
| 2.2 亚波长光栅的等效介质理论 | 第35-43页 |
| 2.2.1 亚波长光栅的零级衍射条件 | 第35-36页 |
| 2.2.2 等效介质理论的一阶近似 | 第36-38页 |
| 2.2.3 等效介质理论的二阶近似 | 第38-43页 |
| 2.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 导模共振效应的原理及特性 | 第44-65页 |
| 3.1 导模共振效应的原理 | 第44-46页 |
| 3.2 导模共振结构的等效波导模型 | 第46-54页 |
| 3.2.1 单层周期性波导的分析 | 第46-48页 |
| 3.2.2 多层周期性波导的分析 | 第48-50页 |
| 3.2.3 共振发生区域 | 第50-51页 |
| 3.2.4 非亚波长导模共振结构 | 第51-54页 |
| 3.3 导模共振结构参数对的光谱响应的影响 | 第54-64页 |
| 3.3.1 光栅参数对光谱响应的影响 | 第54-56页 |
| 3.3.2 波导层参数对光谱响应的影响 | 第56-58页 |
| 3.3.3 覆盖层折射率对光谱响应的影响 | 第58-59页 |
| 3.3.4 滤波带宽的控制 | 第59-61页 |
| 3.3.5 旁带反射率的抑制 | 第61-64页 |
| 3.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 导模共振滤光片的制备 | 第65-83页 |
| 4.1 两种典型的导模共振滤光片 | 第65-67页 |
| 4.2 基片预处理及镀膜 | 第67-70页 |
| 4.2.1 基片预处理工艺 | 第68页 |
| 4.2.2 镀膜工艺及薄膜检测 | 第68-70页 |
| 4.3 光刻胶膜层的制备工艺 | 第70-73页 |
| 4.3.1 光刻胶的涂覆 | 第71-72页 |
| 4.3.2 光刻胶膜层的前烘与检测 | 第72-73页 |
| 4.4 全息干涉曝光工艺 | 第73-78页 |
| 4.4.1 全息曝光系统 | 第74-75页 |
| 4.4.2 干涉条纹的对比度 | 第75-76页 |
| 4.4.3 全息曝光量的监测 | 第76-78页 |
| 4.4.4 基底背面的消反射处理 | 第78页 |
| 4.5 显影 | 第78-79页 |
| 4.5.1 显影工艺 | 第78-79页 |
| 4.5.2 后烘 | 第79页 |
| 4.6 离子束刻蚀 | 第79-80页 |
| 4.7 导模共振滤光片的检测 | 第80-82页 |
| 4.8 本章小结 | 第82-83页 |
| 第五章 带宽可调导模共振滤光片 | 第83-102页 |
| 5.1 入射光偏振态对光谱响应的影响 | 第83-84页 |
| 5.2 透射式带宽可调滤光片 | 第84-94页 |
| 5.2.1 透射光谱的滤波带宽可变原理 | 第84-86页 |
| 5.2.2 扭曲向列相型液晶(TN-LC)的电光效应 | 第86-87页 |
| 5.2.3 电控带宽可调滤光片的工作原理 | 第87-89页 |
| 5.2.4 器件制作和检测 | 第89-93页 |
| 5.2.5 带宽变化范围的调整 | 第93-94页 |
| 5.3 反射式带宽可调滤光片 | 第94-101页 |
| 5.3.1 偏振无关导模共振滤光片的光谱特性 | 第94-96页 |
| 5.3.2 电控带宽可调滤光片 | 第96-97页 |
| 5.3.3 器件的制作和检测 | 第97-100页 |
| 5.3.4 带宽变化范围的调整 | 第100-101页 |
| 5.4 本章小结 | 第101-102页 |
| 第六章 峰值可调谐的导模共振滤光片 | 第102-116页 |
| 6.1 导模共振峰值可调滤光片的研究进展 | 第102-103页 |
| 6.2 基于楔形波导的可调谐滤光片 | 第103-110页 |
| 6.2.1 离子束刻蚀制备楔形薄膜 | 第104-108页 |
| 6.2.2 光栅的制备和检测 | 第108-109页 |
| 6.2.3 三角形挡板顶角大小的影响 | 第109-110页 |
| 6.3 入射角调谐的导模共振彩色滤光片 | 第110-114页 |
| 6.3.1 倾斜入射角时的峰值移动 | 第110-112页 |
| 6.3.2 可调谐彩色滤光片的制作 | 第112-114页 |
| 6.4 本章小结 | 第114-116页 |
| 第七章 总结与展望 | 第116-118页 |
| 7.1 论文的创新点与成果 | 第116页 |
| 7.2 研究展望 | 第116-118页 |
| 参考文献 | 第118-129页 |
| 在读期间公开发表的论文和参与科研项目及取得成果 | 第129-131页 |
| 致谢 | 第131页 |
