摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 场致发射的原理 | 第12-15页 |
1.2.1 金属场致发射机理 | 第13-14页 |
1.2.2 半导体材料场发射机理 | 第14-15页 |
1.3 氮化碳材料概述 | 第15-18页 |
1.3.1 氮化碳的发现 | 第15-16页 |
1.3.2 氮化碳材料的理论结构 | 第16页 |
1.3.3 氮化碳材料的制备方法 | 第16-18页 |
1.4 场致电子发射材料的研究现状与进展 | 第18-19页 |
1.5 本课题的主要研究内容 | 第19-22页 |
第二章 实验制备方案及样品表征手段 | 第22-26页 |
2.1 实验原料和实验设备 | 第22页 |
2.2 材料的制备 | 第22-24页 |
2.2.1 粉体的制备 | 第22-23页 |
2.2.2 场发射阴极的制备 | 第23-24页 |
2.3 样品的表征 | 第24-25页 |
2.3.1 氮化碳粉体的基本表征 | 第24页 |
2.3.2 氮化碳阴极的场发射性能表征 | 第24-25页 |
2.4 本章小结 | 第25-26页 |
第三章 溶剂热法制备氮化碳粉体材料 | 第26-36页 |
3.1 有机溶剂的选择 | 第26页 |
3.2 实验方案 | 第26-28页 |
3.3 C_3N_4粉体的表征及分析 | 第28-33页 |
3.3.1 X射线衍射(XRD)表征 | 第28-30页 |
3.3.2 扫描电镜(SEM) | 第30-32页 |
3.3.3 EDS表征 | 第32页 |
3.3.4 红外光谱分析(FTIR) | 第32-33页 |
3.3.5 样品热稳定性分析 | 第33页 |
3.4 本章小结 | 第33-36页 |
第四章 电泳法制备氮化碳场发射阴极及其场发射性能测试 | 第36-70页 |
4.1 衬底的预处理 | 第36页 |
4.2 场发射阴极的制备 | 第36-38页 |
4.2.1 电泳液的配制 | 第36-37页 |
4.2.2 电泳 | 第37-38页 |
4.3 钛衬底场发射阴极样品性能测试 | 第38-51页 |
4.3.1 热处理温度对钛衬底的影响 | 第39-40页 |
4.3.2 电泳时间的改变对场发射性能的影响 | 第40-43页 |
4.3.3 电泳电压对场发射性能的影响 | 第43-45页 |
4.3.4 电泳液浓度对场发射性能的影响 | 第45-47页 |
4.3.5 氮化碳浓度对场发射性能的影响 | 第47-48页 |
4.3.6 热处理温度对场发射性能的影响 | 第48-50页 |
4.3.7 小结 | 第50-51页 |
4.4 碳布衬底场发射阴极样品性能测试 | 第51-59页 |
4.4.1 电泳时间对场发射性能的影响 | 第51-53页 |
4.4.2 电泳电压对场发射性能的影响 | 第53-55页 |
4.4.3 电泳液浓度对场发射性能的影响 | 第55-57页 |
4.4.4 氮化碳浓度的改变对场发射性能的影响 | 第57-59页 |
4.4.5 小结 | 第59页 |
4.5 石墨衬底场发射阴极样品的性能测试 | 第59-67页 |
4.5.1 电泳时间对场发射性能的影响 | 第60-62页 |
4.5.2 电泳电压对场发射性能的影响 | 第62-63页 |
4.5.3 电泳液浓度的改变对场发射性能的影响 | 第63-65页 |
4.5.4 氮化碳浓度对场发射性能的影响 | 第65-67页 |
4.5.5 小结 | 第67页 |
4.6 本章小结 | 第67-70页 |
第五章 直接生长法制备场发射阴极及其场发射性能研究 | 第70-90页 |
5.1 衬底的预处理 | 第70页 |
5.2 制备场发射阴极 | 第70-71页 |
5.3 碳布衬底场发射阴极样品的制备方案及性能分析 | 第71-79页 |
5.3.1 样品的表征与分析 | 第71-73页 |
5.3.2 工艺参数对场发射性能的影响 | 第73-79页 |
5.3.3 小结 | 第79页 |
5.4 石墨衬底场发射阴极样品的制备方案及性能分析 | 第79-87页 |
5.4.1 样品的表征与分析 | 第80-81页 |
5.4.2 工艺参数对场发射性能的影响 | 第81-87页 |
5.4.3 小结 | 第87页 |
5.5 本章小结 | 第87-90页 |
第六章 总结与展望 | 第90-94页 |
6.1 工作总结 | 第90-91页 |
6.2 工作展望 | 第91-94页 |
参考文献 | 第94-102页 |
攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第102-104页 |
致谢 | 第104-105页 |