摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-22页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 碳纳米管 | 第9-14页 |
1.2.1 碳纳米管的发现 | 第9-10页 |
1.2.2 碳纳米管的分类 | 第10-13页 |
1.2.3 碳纳米管的独特性质 | 第13-14页 |
1.3 碳纳米管的应用 | 第14-15页 |
1.4 CVD生长过程 | 第15-17页 |
1.5 碳纳米管生长制备以及CFD模拟的国内外研究现状 | 第17-20页 |
1.5.1 碳纳米管的制备方法 | 第18-19页 |
1.5.2 计算流体动力学(CFD)模拟现状 | 第19-20页 |
1.6 本文研究主要内容 | 第20-22页 |
第2章 不同反应条件对碳纳米管生长的影响 | 第22-40页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 计算流体力学 | 第22-24页 |
2.2.1 计算流体力学的基本方程 | 第23页 |
2.2.2 计算流体动力学求解流程 | 第23-24页 |
2.3 反应几何模型 | 第24-25页 |
2.4 化学反应模型 | 第25-27页 |
2.5 控制方程 | 第27-28页 |
2.5.1 质量守恒方程 | 第27页 |
2.5.2 动量守恒方程 | 第27-28页 |
2.5.3 能量守恒方程 | 第28页 |
2.5.4 组分质量守恒方程 | 第28页 |
2.6 结果与讨论 | 第28-38页 |
2.6.1 不同进气速度对碳沉积率的影响 | 第28-31页 |
2.6.2 不同反应炉温度对碳沉积率的影响 | 第31-35页 |
2.6.3 不同Xylene(C8H10)供给量对碳沉积率的影响 | 第35-37页 |
2.6.4 不同进.气体温度对碳沉积率的影响 | 第37-38页 |
2.7 本章小节 | 第38-40页 |
第3章 喷嘴式CVD反应器结构对碳纳米管生长的影响 | 第40-52页 |
3.1 引言 | 第40-41页 |
3.2 反应模型 | 第41-43页 |
3.3 结果与讨论 | 第43-51页 |
3.3.1 喷嘴式CVD反应器内部结构对反应过程的影响 | 第43-48页 |
3.3.2 四种结构在不同进.速率下的碳沉积率变化 | 第48-50页 |
3.3.3 芯片高度对喷嘴式CVD反应器结构下的碳沉积率的影响 | 第50-51页 |
3.4 本章小结 | 第51-52页 |
第4章 结论及展望 | 第52-54页 |
4.1 结论 | 第52-53页 |
4.2 展望 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-58页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第58-59页 |
致谢 | 第59-60页 |