首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--半导体二极管论文--二极管:按结构和性能分论文

Si衬底上GaN基LED外延材料的两步法生长

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
第1章 绪论第13-27页
    1.1 引言第13-14页
    1.2 GaN基LED第14-18页
        1.2.1 GaN的晶体结构及基本性质第14-16页
        1.2.2 GaN基LED的基本结构及原理第16-17页
        1.2.3 GaN基LED的衬底选择第17-18页
    1.3 Si衬底上GaN基LED的技术现状第18-23页
        1.3.1 Si衬底上GaN基LED材料的制备难点第18-19页
        1.3.2 Si衬底上GaN基LED外延材料的生长第19-23页
    1.4 Si衬底上低温外延结合高温外延的两步法第23-25页
        1.4.1 Si衬底上两步法生长的研究进展第23-24页
        1.4.2 Si衬底上两步法外延GaN基LED的问题及难点第24页
        1.4.3 本论文的解决方案第24-25页
    1.5 本论文的研究内容及目标第25-26页
    1.6 本论文的创新之处第26-27页
第2章 外延生长与测试表征第27-43页
    2.1 低温外延生长第27-32页
        2.1.1 PLD外延生长原理第27-30页
        2.1.2 PLD设备构造第30-32页
    2.2 高温外延生长第32-36页
        2.2.1 MOCVD外延生长机理第32-34页
        2.2.2 MOCVD设备构造第34-36页
    2.3 测试表征方法第36-43页
        2.3.1 反射高能电子衍射第36-38页
        2.3.2 高分辨X射线衍射第38页
        2.3.3 光学显微镜第38-39页
        2.3.4 扫描电子显微镜第39页
        2.3.5 原子力显微镜第39-40页
        2.3.6 透射电子显微镜第40-41页
        2.3.7 拉曼光谱仪第41页
        2.3.8 光致发光第41-42页
        2.3.9 电致发光第42-43页
第3章 Si衬底上低温外延AlN模板层第43-67页
    3.1 Si衬底上AlN的PLD外延生长第43页
    3.2 生长条件对AlN外延的影响第43-55页
        3.2.1 激光能量第44-48页
        3.2.2 激光频率第48-50页
        3.2.3 生长气压第50-52页
        3.2.4 生长距离第52-55页
        3.2.5 生长温度第55页
    3.3 低温AlN模板层的特性研究第55-62页
        3.3.1 外延生长关系第55-58页
        3.3.2 表面形貌第58-60页
        3.3.3 Si/AlN界面结构第60-62页
    3.4 Si上PLD外延AlN的生长机理第62-66页
        3.4.1 高能脉冲激光烧蚀AlN靶材第62页
        3.4.2 等离子体羽辉向衬底表面膨胀输运第62页
        3.4.3 AlN在Si衬底表面形核成膜第62-66页
    3.5 本章小结第66-67页
第4章 低温AlN模板层上高温生长GaN第67-90页
    4.1 低温AlN模板层上的高温外延生长第67页
    4.2 低温AlN模板层的影响第67-76页
        4.2.1 在不同模板上外延生长的GaN表征第67-71页
        4.2.2 两步法外延GaN的生长机理第71-74页
        4.2.3 两步法外延GaN的缺陷分析第74-76页
    4.3 AlN缓冲层的影响第76-84页
        4.3.1 AlN缓冲层的N/Al第77-81页
        4.3.2 AlN缓冲层的生长温度第81-84页
    4.4 渐变缓冲层的缺陷控制及应力调控第84-88页
        4.4.1 缺陷控制作用第85-86页
        4.4.2 应力调控作用第86-88页
    4.5 本章小结第88-90页
第5章 两步法制备的Si衬底上LED第90-106页
    5.1 Si衬底上LED外延结构的两步法生长第90-91页
    5.2 Si衬底上LED外延片的表征第91-97页
    5.3 LED芯片的制备第97页
    5.4 LED芯片的性能第97-101页
    5.5 器件物理机制第101-104页
    5.6 本章小结第104-106页
结论第106-107页
参考文献第107-122页
攻读博士学位期间取得的研究成果第122-125页
致谢第125-126页
附件第126页

论文共126页,点击 下载论文
上一篇:倒装聚合物发光二极管和叠层器件的性能及光谱调控
下一篇:硬脆性材料微磨削尖端诱导脆裂切断性能研究