| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第11-13页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第13-24页 |
| 1.2.1 抛光轨迹规划方法研究现状 | 第14-20页 |
| 1.2.2 抛光理论模型研究现状 | 第20-24页 |
| 1.3 主要工作及文章结构 | 第24-27页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第24-25页 |
| 1.3.2 论文主要工作 | 第25-26页 |
| 1.3.3 文章结构 | 第26-27页 |
| 第二章 基于网格曲面参数化的抛光轨迹生成 | 第27-45页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 三维网格曲面的参数化 | 第27-32页 |
| 2.2.1 保角参数化算法 | 第28-31页 |
| 2.2.2 参数化结果 | 第31-32页 |
| 2.2.3 映射变形 | 第32页 |
| 2.3 抛光轨迹生成 | 第32-38页 |
| 2.3.1 平面参数域内的轨迹点生成 | 第33-36页 |
| 2.3.2 平面轨迹点的逆映射 | 第36-37页 |
| 2.3.3 偏置轨迹的生成 | 第37-38页 |
| 2.4 抛光材料去除深度模型 | 第38-42页 |
| 2.5 抛光轨迹仿真 | 第42-44页 |
| 2.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 基于余弦和恒半径摆线的抛光轨迹及其工艺控制 | 第45-61页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 余弦轨迹 | 第45-51页 |
| 3.2.1 参数化模型 | 第45-47页 |
| 3.2.2 轨迹生成 | 第47-48页 |
| 3.2.3 幅值与周期参数优化 | 第48-51页 |
| 3.3 恒半径摆线轨迹 | 第51-59页 |
| 3.3.1 参数化模型 | 第51-55页 |
| 3.3.2 轨迹生成 | 第55-56页 |
| 3.3.3 半径与步距参数优化 | 第56-59页 |
| 3.4 轨迹对比 | 第59-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 基于变半径摆线的抛光轨迹及其工艺控制 | 第61-76页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 变半径摆线轨迹的参数化模型 | 第61-64页 |
| 4.3 变半径摆线轨迹生成 | 第64-69页 |
| 4.3.1 中心轴线生成 | 第65-67页 |
| 4.3.2 平面摆线轨迹生成 | 第67-68页 |
| 4.3.3 平面摆线轨迹的逆映射 | 第68-69页 |
| 4.4 参数优化 | 第69-74页 |
| 4.4.1 摆线步距优化 | 第69-71页 |
| 4.4.2 进给速度优化 | 第71-74页 |
| 4.5 本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 抛光轨迹实验验证与分析 | 第76-92页 |
| 5.1 引言 | 第76页 |
| 5.2 实验平台介绍 | 第76-79页 |
| 5.2.1 仿真软件平台 | 第76-78页 |
| 5.2.2 实验设备 | 第78-79页 |
| 5.3 抛光轨迹对比实验 | 第79-91页 |
| 5.3.1 实验过程介绍 | 第79-81页 |
| 5.3.2 余弦优化对比实验 | 第81-84页 |
| 5.3.3 恒半径摆线优化对比实验 | 第84-87页 |
| 5.3.4 变半径摆线优化对比实验 | 第87-89页 |
| 5.3.5 五种轨迹对比实验 | 第89-91页 |
| 5.4 本章小结 | 第91-92页 |
| 总结与展望 | 第92-94页 |
| 全文总结 | 第92-93页 |
| 主要创新点 | 第93页 |
| 未来工作展望 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-99页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第99-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
| 附件 | 第101页 |