| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第14-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第14-15页 |
| 1.2 二氧化钒的结构、性能及应用 | 第15-18页 |
| 1.3 氧化钒薄膜的研究进展及存在的问题 | 第18-24页 |
| 1.3.1 回线宽度可调控的氧化钒薄膜 | 第18-21页 |
| 1.3.2 太赫兹调制用氧化钒薄膜 | 第21-22页 |
| 1.3.3 智能窗口用氧化钒薄膜 | 第22-24页 |
| 1.3.4 在透明导电玻璃衬底上制备的氧化钒薄膜 | 第24页 |
| 1.4 本论文的选题与研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第26-33页 |
| 2.1 氧化钒薄膜的制备 | 第26-29页 |
| 2.2 氧化钒薄膜的表征 | 第29-32页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第29页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱仪 | 第29-30页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第30页 |
| 2.2.4 激光拉曼光谱仪 | 第30页 |
| 2.2.5 傅里叶变换红外光谱分析仪 | 第30-31页 |
| 2.2.6 四探针测试仪 | 第31页 |
| 2.2.7 分光光度计 | 第31-32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 调制纳米氧化钒薄膜回线宽度的方法 | 第33-69页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 反应氧流量对氧化钒薄膜性能的影响 | 第34-45页 |
| 3.2.1 薄膜的制备 | 第34页 |
| 3.2.2 样品S1、S2及S3的成分及结构分析 | 第34-38页 |
| 3.2.3 样品S1、S2及S3热滞回线的调控 | 第38-43页 |
| 3.2.3.1 电学性能方面 | 第38-40页 |
| 3.2.3.2 光学性能方面 | 第40-43页 |
| 3.2.4 氧化钒薄膜的形貌与回线宽度 | 第43-45页 |
| 3.3 衬底温度对氧化钒薄膜性能的影响 | 第45-54页 |
| 3.3.1 氧化钒薄膜的结晶状态分析 | 第45-47页 |
| 3.3.2 氧化钒薄膜的表面形貌分析 | 第47-49页 |
| 3.3.3 氧化钒薄膜的MIT特性分析 | 第49-54页 |
| 3.4 退火温度对氧化钒薄膜性能的影响 | 第54-59页 |
| 3.4.1 氧化钒薄膜的结晶状态分析 | 第54-55页 |
| 3.4.2 氧化钒薄膜的形貌分析 | 第55页 |
| 3.4.3 氧化钒薄膜的MIT特性分析 | 第55-59页 |
| 3.5 掺锆氧化钒薄膜的制备及相变性能研究 | 第59-67页 |
| 3.5.1 掺锆氧化钒薄膜的制备 | 第59-60页 |
| 3.5.2 掺锆氧化钒薄膜的XPS分析 | 第60-61页 |
| 3.5.3 掺锆氧化钒薄膜的拉曼光谱分析 | 第61-62页 |
| 3.5.4 掺锆氧化钒薄膜的SEM及EDS分析 | 第62-64页 |
| 3.5.5 掺锆氧化钒薄膜的MIT性能分析 | 第64-67页 |
| 3.6 本章小结 | 第67-69页 |
| 第四章 颗粒尺寸对氧化钒薄膜回线宽度的影响 | 第69-87页 |
| 4.1 引言 | 第69页 |
| 4.2 溅射时间对氧化钒薄膜性能的影响 | 第69-77页 |
| 4.2.1 氧化钒薄膜的制备 | 第69-70页 |
| 4.2.2 氧化钒薄膜的XRD分析 | 第70-71页 |
| 4.2.3 氧化钒薄膜的XPS分析 | 第71-72页 |
| 4.2.4 氧化钒薄膜的SEM分析 | 第72-73页 |
| 4.2.5 氧化钒薄膜的电学性能分析 | 第73-75页 |
| 4.2.6 氧化钒薄膜的光学性能分析 | 第75-77页 |
| 4.3 退火时间对氧化钒薄膜性能的影响 | 第77-86页 |
| 4.3.1 氧化钒薄膜的制备 | 第77-78页 |
| 4.3.2 氧化钒薄膜的SEM分析 | 第78-80页 |
| 4.3.3 氧化钒薄膜的晶态分析 | 第80-81页 |
| 4.3.4 氧化钒薄膜的MIT性能 | 第81-86页 |
| 4.4 本章小结 | 第86-87页 |
| 第五章 太赫兹波段氧化钒薄膜的开关性能研究 | 第87-106页 |
| 5.1 引言 | 第87页 |
| 5.2 厚度对高阻硅衬底上氧化钒薄膜性能的影响 | 第87-95页 |
| 5.2.1 高阻硅衬底上氧化钒薄膜的制备 | 第87-88页 |
| 5.2.2 高阻硅衬底上氧化钒薄膜的XPS分析 | 第88-89页 |
| 5.2.3 高阻硅衬底上氧化钒薄膜的XRD分析 | 第89-90页 |
| 5.2.4 高阻硅衬底上氧化钒薄膜的拉曼光谱分析 | 第90-91页 |
| 5.2.5 高阻硅衬底上氧化钒薄膜的SEM分析 | 第91-92页 |
| 5.2.6 高阻硅衬底上氧化钒薄膜的电学性能分析 | 第92-94页 |
| 5.2.7 高阻硅衬底上氧化钒薄膜的太赫兹性能分析 | 第94-95页 |
| 5.3 掺硅氧化钒薄膜的制备及太赫兹波段的开关性能研究 | 第95-105页 |
| 5.3.1 高阻硅衬底上掺硅氧化钒薄膜的制备 | 第96页 |
| 5.3.2 掺硅氧化钒薄膜的XRD分析 | 第96-97页 |
| 5.3.3 掺硅氧化钒薄膜的拉曼光谱分析 | 第97-98页 |
| 5.3.4 掺硅氧化钒薄膜的XPS分析 | 第98-99页 |
| 5.3.5 掺硅氧化钒薄膜的SEM分析 | 第99-101页 |
| 5.3.6 掺硅氧化钒薄膜的电学性能分析 | 第101页 |
| 5.3.7 太赫兹波段氧化钒薄膜的MIT性能分析 | 第101-105页 |
| 5.4 本章小结 | 第105-106页 |
| 第六章 透明导电玻璃衬底上氧化钒薄膜的制备及相变性能研究 | 第106-122页 |
| 6.1 引言 | 第106-107页 |
| 6.2 AZO导电玻璃衬底上氧化钒薄膜的制备及性能研究 | 第107-115页 |
| 6.2.1 溅射时间对氧化钒薄膜性质的影响 | 第107-112页 |
| 6.2.1.1 薄膜的制备 | 第107页 |
| 6.2.1.2 薄膜的XRD分析 | 第107-108页 |
| 6.2.1.3 薄膜的SEM分析 | 第108页 |
| 6.2.1.4 薄膜的热色性能分析 | 第108-112页 |
| 6.2.2 反应氧流量对氧化钒热色性能的影响 | 第112-114页 |
| 6.2.3 退火氧流量对氧化钒热色性能的影响 | 第114-115页 |
| 6.3 不同加热方式下氧化钒薄膜的MIT性能 | 第115-121页 |
| 6.3.1 ITO导电玻璃衬底上氧化钒薄膜的MIT性能 | 第116-119页 |
| 6.3.1.1 氧化钒薄膜的制备 | 第116页 |
| 6.3.1.2 氧化钒薄膜的SEM分析 | 第116-117页 |
| 6.3.1.3 氧化钒薄膜的XPS分析 | 第117-118页 |
| 6.3.1.4 氧化钒薄膜的MIT性能分析 | 第118-119页 |
| 6.3.2 AZO导电玻璃衬底上氧化钒薄膜的MIT性能 | 第119-121页 |
| 6.4 本章小结 | 第121-122页 |
| 第七章 总结与展望 | 第122-126页 |
| 7.1 本论文的主要结论 | 第122-123页 |
| 7.2 本论文的主要创新 | 第123-124页 |
| 7.3 工作展望 | 第124-126页 |
| 致谢 | 第126-127页 |
| 参考文献 | 第127-140页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第140-141页 |
